[发明专利]处理设备

摘要

本发明涉及一种用于基板主体的处理设备，特别是光学处理设备，包括具有曝光单元或多个曝光单元的曝光系统，具有用于调节曝光系统的至少一个校准相机的校准系统，具有用于基板主体的保持装置的基板载体单元，以及具有一个配准相机或多个配准相机的配准系统，其中，由保持装置保持的基板主体的位置和/或定向在基板载体单元的至少一个配准位置中可以由一个或至少一个配准相机检测，所述处理设备构造成使得曝光系统和配准系统可以容易地彼此协调，校准系统具有一个参考标记或多个参考标记，参考标记分别布置在相对于至少一个校准相机的限定的相对位置中，并且一个参考标记或至少一个参考标记可以由一个配准相机或至少一个配准相机检测。

主权项

1.一种用于基板主体(12)的处理设备(10)，特别是光学处理设备(10)，包括：具有一个曝光单元(152)或多个曝光单元(152)的曝光系统(54)，具有用于调节曝光系统(54)的至少一个校准相机(212)的校准系统(56)，具有用于所述基板主体(12)的保持装置(122)的基板载体单元(52)，以及具有一个配准相机(252)或多个配准相机(252)的配准系统(58)，其中，由所述保持装置(122)保持的所述基板主体(12)的位置和/或定向在所述基板载体单元(52)的至少一个配准位置(258)中能够由所述一个配准相机或至少一个配准相机(252)检测，其特征在于，所述校准系统(56)具有一个参考标记(232)或多个参考标记(232)，所述一个或至少一个参考标记分别布置在相对于所述至少一个校准相机(212)的限定的相对位置中，并且所述一个或至少一个参考标记(232)能够由所述一个或至少一个配准相机(252)检测。