[发明专利]量测方法、设备和计算机程序有效
| 申请号： | 201880009536.6 | 申请日： | 2018-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN110300928B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | S·阿尔·拉赫曼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01B11/24 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明中披露一种量测方法以及相关联的量测设备。该方法包括：测量通过光刻过程而形成于衬底上的至少两个层中的目标，并且例如在图像场中捕捉至少一个对应对的非零衍射阶，以获得测量数据。执行如依据所述目标的几何参数而定义的所述目标的测量结果的仿真，所述几何参数包括一个或多个可变几何参数，并且使测量数据与仿真数据之间的差最小化，以便直接重新构造用于所述一个或多个可变几何参数的值。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 设备 计算机 程序 | ||
【主权项】：
1.一种量测方法，包括：获得涉及通过光刻过程而形成于衬底上的至少两个层中的目标的测量的测量数据，所述测量数据是从至少一个对应对的非零衍射阶导出的；获得涉及与依据所述目标的几何参数定义的所述目标的测量的仿真相关的仿真数据，所述几何参数包括一个或多个可变几何参数；以及最小化测量数据与仿真数据之间的差，以便直接重新构造用于所述一个或多个可变几何参数的值。
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