[发明专利]量测方法、设备和计算机程序

权利要求书

1.一种量测方法，包括：

获得涉及通过光刻过程形成于衬底上的至少两个层中的目标的测量的测量数据，所述测量数据是从至少一个对应对的非零衍射阶导出的；

获得与涉及依据所述目标的几何参数而定义的所述目标的测量的仿真相关的仿真数据，所述几何参数包括一个或多个可变几何参数；以及

最小化测量数据与仿真数据之间的差，以便直接重新构造用于所述一个或多个可变几何参数的值。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述测量数据涉及从暗场测量导出的所述目标的测量结果，其中，所述至少一个对应对的非零衍射阶在一图像平面中被检测。

3.如权利要求2所述的方法，其中，执行所述最小化步骤，以最小化测量数据与仿真之间的所检测到的非零衍射阶的强度度量的差。

4.如权利要求3所述的方法，其中，所述测量数据和仿真数据各自包括多个强度值，其中，非零衍射阶、测量辐射特性和/或所述目标中所包括的强加的目标偏置的每一种组合分别对应一个强度值，并且所述强度度量是从所述强度值导出的。

5.如权利要求3或4所述的方法，其中，所述强度度量包括按比例衡量的图像强度不对称度，每一个按比例衡量的图像强度不对称度测量结果包括通过它们的平均强度按比例衡量的对应对的非零衍射阶之间的强度差。

6.如权利要求3或4所述的方法，其中，所述强度度量包括叠层敏感度，其中，叠层敏感度是重叠比例常数与测量图像内的感兴趣的区域的强度的平均值的比率。

7.如权利要求3或4所述的方法，其中，所述强度度量包括平均强度，所述平均强度是测量图像内的感兴趣的区域的强度的平均值。

8.如权利要求1所述的方法，其中，所述测量数据与从光瞳平面测量中导出的目标的测量结果相关，其中，所述至少一个对应对的非零衍射阶在所述光瞳平面中被检测到。

9.如权利要求1所述的方法，其中，所述一个或多个可变几何参数包括所述目标中所包括的层的至少一个层高度。

10.如权利要求9所述的方法，其中，所述一个或多个可变几何参数包括所述目标中所包括的不同层的多个层高度，并且其中，最小化步骤包括同时重新构造用于所述多个层高度的值。

11.如权利要求9或10所述的方法，包括以下步骤：计算光谱序列，所述光谱序列描述：针对具有在所述最小化步骤中确定的至少一个层高度的目标，测量辐射的强度参数随着测量辐射的波长的变化；以及

基于所述光谱序列优化该测量辐射。

12.如权利要求1所述的方法，其中，所述一个或多个可变几何参数包括所述目标所包括的多个结构中的至少一个结构中不存在几何不对称性的效应的情况下的重叠误差。

13.如权利要求1所述的方法，其中，所述一个或多个可变几何参数包括所述目标中所包括的多个结构中的至少一个结构的一个或多个几何不对称性参数。

14.如权利要求1所述的方法，其中，所述一个或多个可变几何参数包括：

所述目标中所包括的层的一个或多个层高度；以及

一个或多个其他可变几何参数，其能够包括以下各项中的一项或多项：所述目标所包括的多个结构中的至少一个结构中不存在几何不对称性的效应的情况下的重叠误差，以及一个或多个几何不对称性参数；

其中，在两个阶段中执行所述最小化步骤：第一阶段用于重新构造用于所述一个或多个层高度的值，第二阶段用于重新构造用于所述一个或多个其他可变几何参数的值，在第一阶段中确定的一个或多个层高度在第二阶段中被前馈为一个或多个固定层高度参数。