[外观设计]等离子处理装置用气体环有效
| 申请号： | 201830047229.X | 申请日： | 2018-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN304826214S | 公开（公告）日： | 2018-09-21 |
| 发明（设计）人： | 奥田浩司;田中基裕 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | 15-99 | 分类号： | 15-99 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 丁文蕴;许凯 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 1．本外观设计产品的名称：等离子处理装置用气体环。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于作为在半导体制造中等离子处理装置上的部件使用。如使用状态及示出各部名称参考图所示，由本产品所设的各小孔向室内喷出气体。3．本外观设计产品的设计要点：本外观设计产品的形状。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：立体图。5．在使用状态及示出各部名称参考图中，C‑上部高频电源，D‑气体供给线，E‑上部对侧电极，F‑气体供给线，G‑硅片，H‑下部电极，I‑真空室，J‑下部高频电源，K‑气体排气线，L‑本外观设计产品，M‑等离子处理装置用电极板（浴盘），N‑等离子处理装置，O‑带小孔的护板。 | ||
| 搜索关键词： | 外观设计 等离子处理装置 气体供给线 高频电源 气体环 小孔 半导体制造 部件使用 气体排气 下部电极 用电极板 侧电极 真空室 硅片 护板 喷出 室内 图片 | ||
【主权项】：
暂无信息
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