[实用新型]一种光刻机框架及光刻机

摘要

本实用新型提供了一种光刻机框架及光刻机，光刻机框架包括测量支架、主基板、Y向干涉仪支架及连接臂，测量支架的下底面形成有一延伸部，延伸部上沿Y向相对的两个侧壁分别为第一侧壁和第二侧壁，测量支架的下底面上沿Y向位于延伸部的两侧的底面分别为第一下底面和第二下底面，主基板上开设有一凹槽，延伸部位于凹槽内，并且测量支架通过第一下底面和第二下底面与主基板连接，Y向干涉仪支架固定连接于测量支架一端，连接臂设置于主基板内，连接臂一端固定连接于Y向干涉仪支架，另一端固定连接于第一侧壁。测量支架和主基板T形嵌设连接，提高了干涉测量系统的测量精度，减少了震动的传递对曝光成像系统的影响，有效提高了光刻机整机系统的稳定性。

主权项

1.一种光刻机框架，其特征在于，包括测量支架和主基板，所述测量支架的下底面的部分沿远离所述下底面的方向向外延伸形成一延伸部，所述测量支架的下底面上沿Y向位于所述延伸部的两侧的底面分别为第一下底面和第二下底面；所述主基板的上端面开设有一与所述延伸部相匹配的凹槽，所述延伸部嵌设于所述凹槽内，并且所述测量支架通过所述第一下底面和所述第二下底面与所述主基板连接；所述第一下底面包括两个相互间隔设置的用于与所述主基板连接的连接区域，所述第二下底面包括两个相互间隔设置的用于与所述主基板连接的连接区域，所述第一下底面的两个所述连接区域的区域中心的连线所在的直线与所述第二下底面的两个所述连接区域的区域中心的连线所在的直线之间相交呈T形分布，所述Y向为光刻机的扫描方向。