[实用新型]电阻片侧面滚釉装置有效

专利信息
申请号: 201822226379.4 申请日: 2018-12-28
公开(公告)号: CN209531253U 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 李波;郑文飞 申请(专利权)人: 浙江避泰电气科技有限公司
主分类号: B05C1/02 分类号: B05C1/02;B05C13/02
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 周涌贺
地址: 323000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型提供了一种电阻片侧面滚釉装置,它包括机架,所述机架上设置有釉液箱,所述釉液箱的上方设置有相互平行的滚釉辊A和滚釉辊B,滚釉辊A和滚釉辊B之间留有间距,所述机架上位于釉液箱的两侧分别设置有上料工位和中转工位,所述上料工位包括上料V型槽,上料V型槽中远离釉液箱的一侧设置有斜倾的上料板,上料板中远离上料V型槽的一端高于靠近上料V型槽的一端,所述中转工位包括至少两个中转V型槽。该装置具有上料工位、上釉工位和中转工位,使作业人员不用来回走动,即可辅助上釉作业的流畅进行,提高了作业效率,且滚釉辊A和滚釉辊B之间的间距可根据电阻片的型号进行调节,提高了装置的通用性,降低了电阻片的生产成本。
搜索关键词: 电阻片 上料 釉液 上料工位 中转工位 上料板 上釉 本实用新型 作业效率 侧面 工位 生产成本 走动 平行
【主权项】:
1.一种电阻片侧面滚釉装置,它包括机架,所述机架上设置有釉液箱,所述釉液箱的上方设置有相互平行的滚釉辊A和滚釉辊B,滚釉辊A和滚釉辊B之间留有间距,其特征是:所述机架上位于釉液箱的两侧分别设置有上料工位和中转工位,所述上料工位包括上料V型槽,上料V型槽中远离釉液箱的一侧设置有斜倾的上料板,上料板中远离上料V型槽的一端高于靠近上料V型槽的一端,所述中转工位包括至少两个中转V型槽。
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