[实用新型]一种光罩保护膜贴合装置有效
申请号: | 201821916682.0 | 申请日: | 2018-11-19 |
公开(公告)号: | CN208937905U | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | 徐文权 | 申请(专利权)人: | 广州仕元光电股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/48 | 分类号: | G03F1/48 |
代理公司: | 广州德科知识产权代理有限公司 44381 | 代理人: | 万振雄;林玉旋 |
地址: | 510730 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及半导体器件的加工工艺中的光掩模技术领域,公开了一种光罩保护膜贴合装置,其中的保护膜包括粘结在一起的膜框和膜片,前述的贴合装置包括:装夹机构,用于定位夹紧光罩的掩膜版,掩膜版的被保护面朝下夹紧在装夹机构上,装夹机构对着掩膜版的被保护面的欲贴膜区域空出;贴膜机构,用于定位放置保护膜,贴膜机构可以上下移动,膜框的自由贴合面朝上且和掩膜版的被保护面始终保持平行;升降机构,用于驱动贴膜机构上下移动。本实用新型的贴合装置可以更好的保证掩膜版和保护膜贴合后的严密性。 | ||
搜索关键词: | 掩膜版 贴合装置 贴膜机构 装夹机构 本实用新型 光罩保护膜 上下移动 保护膜 膜框 半导体器件 保护膜贴合 光掩模技术 定位放置 定位夹紧 升降机构 贴合面 严密性 朝上 光罩 膜片 贴膜 下夹 粘结 平行 驱动 自由 保证 | ||
【主权项】:
1.一种光罩保护膜贴合装置,其中的保护膜包括粘结在一起的膜框和膜片,其特征在于,所述的贴合装置包括:装夹机构,用于定位夹紧光罩的掩膜版,掩膜版的被保护面朝下夹紧在装夹机构上,装夹机构对着掩膜版的被保护面的欲贴膜区域空出;贴膜机构,用于定位放置保护膜,贴膜机构可以上下移动,膜框的自由贴合面朝上且和掩膜版的被保护面始终保持平行;升降机构,用于驱动贴膜机构上下移动。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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