[实用新型]一种双平台全周打磨抛光装置有效
| 申请号： | 201821811132.2 | 申请日： | 2018-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN209439948U | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | 王华 | 申请（专利权）人： | 王华 |
| 主分类号： | B24B27/00 | 分类号： | B24B27/00;B24B55/06 |
| 代理公司： | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人： | 范小艳;徐勋夫 |
| 地址： | 523000 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种双平台全周打磨抛光装置，包括第一打磨抛光单元、第二打磨抛光单元及主控单元；第一、第二打磨抛光单元围绕一打磨抛光区布置；打磨抛光区设置有第一、第二端工位点；第一打磨抛光单元以第一端工作点为打磨抛光起点、第二端工位点为打磨抛光终点，第一打磨抛光单元于打磨抛光区的一侧往复位移于第一、第二端工位点之间；所述第二打磨抛光单元以第二端工作点为打磨抛光起点、第一端工位点为打磨抛光终点，第二打磨抛光单元于打磨抛光区的另一侧往复位移于第一、第二端工位点之间；如此，实现了对工件的周向打磨抛光，大幅提升了作业效率，降低人工成本，同时，提高了打磨抛光质量，避免出现打磨抛光局部不到位，适于推广应用。 | ||
| 搜索关键词： | 打磨抛光 工位 打磨抛光装置 往复位移 第一端 工作点 双平台 本实用新型 人工成本 主控单元 作业效率 | ||
【主权项】：
1.一种双平台全周打磨抛光装置，其特征在于：包括有第一打磨抛光单元、第二打磨抛光单元及主控单元，所述主控单元分别连接于第一打磨抛光单元、第二打磨抛光单元；第一打磨抛光单元、第二打磨抛光单元围绕一打磨抛光区布置；所述打磨抛光区设置有第一端工作点、第二端工位点；所述第一打磨抛光单元以第一端工作点为打磨抛光起点、第二端工位点为打磨抛光终点，第一打磨抛光单元于打磨抛光区的一侧往复位移于第一端工作点、第二端工位点之间；所述第二打磨抛光单元以第二端工作点为打磨抛光起点、第一端工位点为打磨抛光终点，第二打磨抛光单元于打磨抛光区的另一侧往复位移于第一端工作点、第二端工位点之间。
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