[实用新型]光处理装置、发光装置及硅胶表面处理装置有效
申请号: | 201821748892.3 | 申请日: | 2018-10-26 |
公开(公告)号: | CN209095836U | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 路如旃;苏红宏 | 申请(专利权)人: | 浙江清华柔性电子技术研究院 |
主分类号: | B29C35/08 | 分类号: | B29C35/08;A61L2/10 |
代理公司: | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司 33250 | 代理人: | 舒丁 |
地址: | 314006 浙江省嘉兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种光处理装置、发光装置及硅胶表面处理装置,所述光处理装置包括光源、壳体、液态介质和反射罩,其中所述壳体的至少一侧为透光材质且作为出光面;所述反射罩设置于所述出光的相对侧;所述光源设置于所述反射罩和出光面之间;所述壳体中至少在所述光源与所述出光面之间灌注有液态介质,用于对光源发出的光线选择性的吸收或透过。上述光处理装置、发光装置及硅胶表面处理装置将光源放入液态介质中,对光源发出的光线进行选择性的吸收或透过,使有效光线大量透过,提高了有效光线的密度,且液态介质能够吸收反应过程中产生的热量,降低设备表面温度,同时采用了反射罩,将射向无效方向的光线反射回有效方向,提高了光线的利用率。 | ||
搜索关键词: | 光处理装置 光源 液态介质 反射罩 处理装置 发光装置 硅胶表面 出光面 壳体 有效光线 本实用新型 光线选择性 光线反射 光源设置 降低设备 透光材质 吸收反应 有效方向 放入 吸收 灌注 | ||
【主权项】:
1.一种光处理装置,用于对光源的光进行处理,其特征在于,所述光处理装置包括壳体、液态介质,其中:所述壳体包括出光面;所述光源与所述出光面之间有液态介质;所述光源发出的光通过液态介质选择性的吸收或透过后从出光面透出。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江清华柔性电子技术研究院,未经浙江清华柔性电子技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201821748892.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:超宽幅大型鼓式硫化机及超宽幅橡胶板
- 下一篇:一种PVC热收缩膜的冷却系统