[实用新型]光处理装置、发光装置及硅胶表面处理装置

说明书

本实用新型涉及一种光处理装置、发光装置及硅胶表面处理装置，所述光处理装置包括光源、壳体、液态介质和反射罩，其中所述壳体的至少一侧为透光材质且作为出光面；所述反射罩设置于所述出光的相对侧；所述光源设置于所述反射罩和出光面之间；所述壳体中至少在所述光源与所述出光面之间灌注有液态介质，用于对光源发出的光线选择性的吸收或透过。上述光处理装置、发光装置及硅胶表面处理装置将光源放入液态介质中，对光源发出的光线进行选择性的吸收或透过，使有效光线大量透过，提高了有效光线的密度，且液态介质能够吸收反应过程中产生的热量，降低设备表面温度，同时采用了反射罩，将射向无效方向的光线反射回有效方向，提高了光线的利用率。

技术领域

本实用新型涉及光处理技术领域，特别是涉及一种光处理装置、发光装置及硅胶表面处理装置。

背景技术

紫外线除用来消毒和杀菌外，广泛应用在硅胶的表面处理。硅胶的表面处理是采用臭氧和紫外光线等产生的一系列复杂的反应，使硅胶表面满足一定的要求。

现在广泛采用的技术是采用低功率异型紫外光源或者有极紫外光源产生少量的臭氧并且光线照射在硅胶产品上，臭氧、光源有效光线和硅胶产生反应进行硅胶产品的处理。此过程中由于光线逸散，导致有效光线密度较小，因此反应过程较长，产生大量热量，效率较低且温度过高影响设备寿命。

实用新型内容

基于此，有必要针对目前的技术消毒过程中由于光线逸散，导致有效光线密度较小，因此反应过程较长，产生大量热量，效率较低且温度过高影响设备寿命的问题，提供一种光处理装置、发光装置及硅胶表面处理装置。

一种光处理装置，用于对光源的光进行处理，

所述光处理装置包括壳体、液态介质，其中：

所述壳体包括出光面；

所述光源与所述出光面之间有液态介质；

所述光源发出的光通过液态介质选择性的吸收或透过后从出光面透出。

在其中一个实施例中，所述光处理装置包括反射罩，所述光源设置于所述反射罩和出光面之间。

在其中一个实施例中，所述光处理装置还包括散热流道，散热流道具有两端口，所述两端口与液体介质接触以与液态介质形成散热回路。

在其中一个实施例中，所述散热流道包括传输管道、液体泵和散热模块，所述传输管道两端与液体介质接触，所述液体泵和散热模块设置于所述传输管道上，所述液体泵将所述液态介质送入所述传输管道一端，经过所述散热模块散热后从传输管道另一端输出。

在其中一个实施例中，所述光源为线光源或者面光源中的一种。

在其中一个实施例中，所述壳体的出光面为石英玻璃。

在其中一个实施例中，所述壳体的形状与所述光源的形状相适应。

在其中一个实施例中，所述光源与所述壳体相对固定或所述光源悬浮在所述液态介质中。

在其中一个实施例中，所述光源为多个发光器件构成的组合体。

一种发光装置，包括光源以及上述光处理装置。

在其中一个实施例中，所述光源为紫外光源。

在其中一个实施例中，所述液态介质的吸收波长范围为大于700nm。

一种硅胶表面处理装置，包括上述发光装置，所述发光装置的出光面透出的光照射待处理硅胶表面。

在其中一个实施例中，所述硅胶表面处理装置还包括箱体，所述发光装置设置在所述箱体内，所述箱体与空气处理装置连接。