[实用新型]制程处理设备有效
| 申请号： | 201821670007.4 | 申请日： | 2018-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN208903075U | 公开（公告）日： | 2019-05-24 |
| 发明（设计）人： | 陈昶睿 | 申请（专利权）人： | 太禓有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/36 | 分类号： | G03F7/36 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨;李林 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种制程处理设备包括制程单元，用以对基板进行显影、蚀刻或去膜制程，制程单元包括二流体雾化装置，二流体雾化装置包括液体幕帘出口，二流体雾化装置用以供气体与液体混合雾化后形成雾化液体流，并由液体幕帘出口喷洒出雾化液体至基板。 | ||
| 搜索关键词： | 制程 流体雾化装置 处理设备 雾化液体 液体幕帘 蚀刻 本实用新型 液体混合 对基板 供气体 基板 去膜 雾化 显影 喷洒 出口 | ||
【主权项】：
1.一种制程处理设备，其特征是包括：一制程单元，用以对一基板进行显影、蚀刻或去膜制程，该制程单元包括一二流体雾化装置，该二流体雾化装置包括一液体幕帘出口，该二流体雾化装置用以供一气体与一液体混合雾化后形成一雾化液体流，并由该液体幕帘出口喷洒出该雾化液体流至该基板。
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