[实用新型]一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置有效
| 申请号： | 201821657181.5 | 申请日： | 2018-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN209069801U | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 谢重;姚朝霞;鲍科良;杨禹晟 | 申请（专利权）人： | 谢重;台州职业技术学院 |
| 主分类号： | G01N15/10 | 分类号： | G01N15/10 |
| 代理公司： | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人： | 杨建龙 |
| 地址： | 317000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型属于精密抛光技术领域，具体涉及一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置，包括框架体以及设置在框架体上的CCD相机位置调节组件、激光器位置调节组件和抛光组件，CCD相机位置调节组件包括CCD相机托板、与CCD相机托板固定连接的CCD相机、驱动CCD相机托板左右移动的第一驱动机构和驱动CCD相机托板上下移动的第二驱动机构，激光器位置调节组件包括激光器托板、与激光器托板固定连接的激光器、驱动激光器托板前后移动的第三驱动机构。本实用新型可以精准地拍摄到非接触式两相流抛光中粒子在抛光平面内的运动状态，而且可以实现对不同大小的抛光盘和不同大小的抛光间隙的抛光加工过程中粒子的拍摄，该装置结构简单，功能容易实现，且成本经济。 | ||
| 搜索关键词： | 托板 激光器 两相流 位置调节组件 本实用新型 激光器位置 调节组件 观测装置 抛光加工 驱动机构 框架体 中磨粒 粒子 第一驱动机构 抛光加工过程 驱动激光器 成本经济 非接触式 精密抛光 抛光间隙 抛光平面 抛光组件 前后移动 上下移动 运动状态 装置结构 左右移动 驱动 拍摄 抛光 抛光盘 | ||
【主权项】：
1.一种两相流抛光加工中磨粒的PIV观测装置，其特征在于包括框架体（1）以及设置在框架体（1）上的CCD相机位置调节组件、激光器位置调节组件和抛光组件，CCD相机位置调节组件包括CCD相机托板（4）、与CCD相机托板（4）固定连接的CCD相机（3）、驱动CCD相机托板（4）左右移动的第一驱动机构和驱动CCD相机托板（4）上下移动的第二驱动机构，激光器位置调节组件包括激光器托板（11）、与激光器托板（11）固定连接的激光器（22）和驱动激光器托板（11）前后移动的第三驱动机构。
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