[实用新型]球体零件的偏心研抛装置的下抛光机构有效
申请号: | 201821595199.7 | 申请日: | 2018-09-25 |
公开(公告)号: | CN208811844U | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | 熬雪梅;袁巨龙;陈芝向;张万辉 | 申请(专利权)人: | 杭州智谷精工有限公司 |
主分类号: | B24B37/025 | 分类号: | B24B37/025;B24B37/34 |
代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人: | 陈振华 |
地址: | 311121 浙江省杭州市余杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 球体零件的偏心研装置的下研抛机构,包括操作台,操作台上设有研抛液回收槽,研抛液回收槽内设有下研磨盘,下研磨盘与其下方的电机连接;下研磨盘上偏心放置有保持环,保持环内侧底部设有一圈锥齿,保持环受到固定在操作台上限位器的限制,保持环内放置有游星轮式保持架,游星轮式保持架与锥齿相啮合;游星轮式保持架上设有一组圆柱形通孔,圆柱形通孔直径比游星轮式保持架的厚度大。本实用新型可以大幅提高研抛工具的转速,提高研抛效率;同时运动轨迹可控,研磨作业均匀,球形零件的批一致性好。 | ||
搜索关键词: | 保持架 星轮式 下研磨盘 操作台 偏心 圆柱形通孔 球体零件 液回收槽 锥齿 啮合 本实用新型 电机连接 抛光机构 偏心放置 球形零件 上限位器 研抛装置 一致性好 运动轨迹 研磨 可控 | ||
【主权项】:
1.球体零件的偏心研抛装置的下抛光机构,其特征在于:包括操作台(11),操作台(11)上设有研抛液回收槽(12),研抛液回收槽(12)的底部设有排液口(121);所述研抛液回收槽(12)内设有下研磨盘(13),下研磨盘(13)与设于其下方的电机(14)连接;所述下研磨盘(13)上偏心放置有保持环(15),所述保持环(15)内侧底部设有一圈锥齿(151),所述保持环(15)受到固定在所述操作台(11)上限位器(16)的限制,保持环(15)内放置有游星轮式保持架(17),所述游星轮式保持架(17)与锥齿(151)相啮合;所述游星轮式保持架(17)上设有一组呈同心圆均匀分布的圆柱形通孔(171),圆柱形通孔(171)的直径比游星轮式保持架(17)的厚度大。
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