[实用新型]球体零件的偏心研抛装置的下抛光机构有效

专利信息
申请号: 201821595199.7 申请日: 2018-09-25
公开(公告)号: CN208811844U 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 熬雪梅;袁巨龙;陈芝向;张万辉 申请(专利权)人: 杭州智谷精工有限公司
主分类号: B24B37/025 分类号: B24B37/025;B24B37/34
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 代理人: 陈振华
地址: 311121 浙江省杭州市余杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 球体零件的偏心研装置的下研抛机构,包括操作台,操作台上设有研抛液回收槽,研抛液回收槽内设有下研磨盘,下研磨盘与其下方的电机连接;下研磨盘上偏心放置有保持环,保持环内侧底部设有一圈锥齿,保持环受到固定在操作台上限位器的限制,保持环内放置有游星轮式保持架,游星轮式保持架与锥齿相啮合;游星轮式保持架上设有一组圆柱形通孔,圆柱形通孔直径比游星轮式保持架的厚度大。本实用新型可以大幅提高研抛工具的转速,提高研抛效率;同时运动轨迹可控,研磨作业均匀,球形零件的批一致性好。
搜索关键词: 保持架 星轮式 下研磨盘 操作台 偏心 圆柱形通孔 球体零件 液回收槽 锥齿 啮合 本实用新型 电机连接 抛光机构 偏心放置 球形零件 上限位器 研抛装置 一致性好 运动轨迹 研磨 可控
【主权项】:
1.球体零件的偏心研抛装置的下抛光机构,其特征在于:包括操作台(11),操作台(11)上设有研抛液回收槽(12),研抛液回收槽(12)的底部设有排液口(121);所述研抛液回收槽(12)内设有下研磨盘(13),下研磨盘(13)与设于其下方的电机(14)连接;所述下研磨盘(13)上偏心放置有保持环(15),所述保持环(15)内侧底部设有一圈锥齿(151),所述保持环(15)受到固定在所述操作台(11)上限位器(16)的限制,保持环(15)内放置有游星轮式保持架(17),所述游星轮式保持架(17)与锥齿(151)相啮合;所述游星轮式保持架(17)上设有一组呈同心圆均匀分布的圆柱形通孔(171),圆柱形通孔(171)的直径比游星轮式保持架(17)的厚度大。
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