[实用新型]一种反应釜清洗装置

摘要

本实用新型公开了一种反应釜清洗装置，包括底座，所述底座的底部安装有行走轮，且底座上固定设有立柱，所述立柱的上端固定设有横梁，所述横梁上固定设有滑轨，本实用新型在使用的时候可以将反应釜移动到清洗装置的下方，横向移动装置可以带动清洗装置移动来调节位置，在清洗的时候，伸缩杆可以进行伸缩，使毛刷可以清洗反应釜内不同高度的位置，在清洗的过程中，转动电机可以转动，使毛刷可以周向转动，对反应釜的四周进行刷洗，由于反应釜内的直接存在差异。

主权项

1.一种反应釜清洗装置，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）的底部安装有行走轮，且底座（1）上固定设有立柱（2），所述立柱（2）的上端固定设有横梁（3），所述横梁（3）上固定设有滑轨（4），所述滑轨（4）内滑动安装有滑块（5），所述横梁（3）上固定设有横向移动装置，所述横向移动装置与滑块（5）传动连接，所述滑块（5）与伸缩杆（6）的上端固定连接，所述伸缩杆（6）的下端安装有清洗装置，所述清洗装置包括横杆（7）、滑杆（8）、清洗电机（9）以及毛刷（10），所述伸缩杆（6）的下端与转动电机固定连接，所述转动电机的输出轴与横杆（7）的一端固定连接，所述滑杆（8）的后端套有弹簧，且滑杆（8）的后端滑动卡设在横杆（7）的前端，所述清洗电机（9）固定安装在滑杆（8）的前端，所述毛刷（10）与清洗电机（9）的输出轴固定连接，所述伸缩杆（6）上安装有清洗喷头（11）以及抽水管（12）。