[实用新型]一种制备高质量硫化镉薄膜的装置有效
申请号: | 201821550602.4 | 申请日: | 2018-09-21 |
公开(公告)号: | CN208829764U | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | 肖振宇;曹阳;冯旭莹;高梦格;刘文元;孙书杰;赵志强;孙柱柱;李彦磊;程念;房良;訾威;刘江峰;涂友超;耿晓菊 | 申请(专利权)人: | 信阳师范学院 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12 |
代理公司: | 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 | 代理人: | 陈勇 |
地址: | 464000 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本实用新型具体涉及一种制备高质量硫化镉薄膜的装置,包括沉积容器、密封盖、样品槽和搅拌桨,所述沉积容器为上部开口的圆柱形腔体,沉积容器顶部设置有密封盖,所述密封盖包括第一密封盖和第二密封盖,所述第二密封盖设置在第一密封盖内侧,第一密封盖的下部可拆卸连接有样品槽,第二密封盖的上方固定连接有马达,所述马达的输出轴的下端穿过第二密封盖并连接搅拌桨,所述搅拌桨穿过样品槽。使用本实用新型制备硫化镉薄膜,降低了沉积过程中氨水的挥发,保证沉积过程中氨水溶度的维持,从而抑制镉的氨络合物的分解,进一步抑制硫化镉晶种的生成速度,制备出无悬浮硫化镉颗粒的硫化镉薄膜。 | ||
搜索关键词: | 密封盖 硫化镉薄膜 制备 沉积容器 搅拌桨 样品槽 氨水 本实用新型 沉积 马达 可拆卸连接 硫化镉颗粒 圆柱形腔体 穿过 氨络合物 顶部设置 硫化镉晶 上部开口 输出轴 挥发 溶度 下端 悬浮 分解 保证 | ||
【主权项】:
1.一种制备高质量硫化镉薄膜的装置,其特征在于,包括沉积容器(6)、密封盖(2)、样品槽(3)和搅拌桨(4),所述沉积容器(6)为上部开口的圆柱形腔体,沉积容器(6)顶部设置有密封盖(2),所述密封盖(2)包括第一密封盖(21)和第二密封盖(22),所述第二密封盖(22)设置在第一密封盖(21)内侧,第一密封盖(21)的下部可拆卸连接有样品槽(3),第二密封盖(22)的上方固定连接有马达(1),所述马达(1)的输出轴的下端穿过第二密封盖(22)并连接搅拌桨(4),所述搅拌桨(4)穿过样品槽(3)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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