[实用新型]一种真空镀膜机真空室基片架升降机构有效
| 申请号： | 201821223557.1 | 申请日： | 2018-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN208917301U | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 刘光斗;舒逸;李赞 | 申请（专利权）人： | 湖南玉丰真空科学技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/22 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 411100 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空镀膜机真空室基片架升降机构，在真空室底板下方固定有两个气缸，两个气缸的活塞杆端连接在同一块端板上，所述端板的两端各设有一支撑杆，所述支撑杆穿透真空室底板伸入至真空室内，支撑杆的顶端连接支撑座，支撑杆穿过真空室底板处设有密封板，在真空室与端板之间的支撑杆外套有波纹管，所述波纹管两端分别与密封板和端板密闭连接。本实用新型的升降机构可以实现真空环境下基片架与传输机构的脱离，从而使得在真空环境下可以实现多个基片架中的某一个或者多个基片架的独立传输，其工作过程平稳，气密性好，在整个工作过程中不会造成真空度的变化。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑杆 基片架 端板 真空室底板 升降机构 真空室 本实用新型 真空镀膜机 真空环境 波纹管 密封板 气缸 传输机构 顶端连接 独立传输 活塞杆端 密闭连接 气密性好 下基片 支撑座 伸入 穿透 穿过 室内 脱离 | ||
【主权项】：
1.一种真空镀膜机真空室基片架升降机构，其特征在于：在真空室底板下方固定有两个气缸，两个气缸的活塞杆端连接在同一块端板上，所述端板的两端各设有一支撑杆，所述支撑杆穿透真空室底板伸入至真空室内，支撑杆的顶端连接支撑座，支撑杆穿过真空室底板处设有密封板，在真空室与端板之间的支撑杆外套有波纹管，所述波纹管两端分别与密封板和端板密闭连接。
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