[实用新型]一种基于泄露辐射成像的CCD靶面安装校准装置有效

专利信息
申请号: 201821204443.2 申请日: 2018-07-27
公开(公告)号: CN208833665U 公开(公告)日: 2019-05-07
发明(设计)人: 黄学鹍;陈漪恺;周芊江;左苇;沈中华 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 张祥
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种基于泄露辐射成像的CCD靶面安装校准装置,包括:照明光源,待测荧光物质,含金属层芯片基底,折射率匹配油,显微物镜,反射镜,偏振元件组,滤光片,聚束透镜,水平滑轨,成像透镜,CCD图像传感器。荧光样品在被照明光源辐照后,产生荧光表面等离激元波并泄露辐射通过含金属层芯片基底,在被显微物镜收集信号后实现荧光成像。期间,照明光源发出的激发光由偏振元件组和滤光片过滤。通过移动成像透镜的位置,提出泄露辐射霍夫变换算法对CCD图像传感器靶面进行检测,完成常规手段不易发现的CCD靶面与安装定位面夹角误差的精确校准。本实用新型结构简单,适用性强。
搜索关键词: 照明光源 泄露 本实用新型 辐射成像 含金属层 偏振元件 显微物镜 校准装置 滤光片 基底 芯片 移动成像透镜 安装定位面 折射率匹配 辐照 常规手段 成像透镜 等离激元 霍夫变换 夹角误差 聚束透镜 水平滑轨 荧光表面 荧光成像 荧光物质 荧光样品 辐射 反射镜 激发光 校准 靶面 算法 过滤 检测 发现
【主权项】:
1.一种基于泄露辐射成像的CCD靶面安装校准装置,其特征在于,所述装置包括照明光源(1)、待测荧光物质(2)、含金属层芯片基底(3)、折射率匹配油(4)、显微物镜(5)、反射镜(6)、偏振元件组(7)、滤光片(8)、聚束透镜(9)、水平移动轴(10)、成像透镜(11)和CCD图像传感器(13),所述照明光源(1)、含金属层芯片基底(3)、折射率匹配油(4)、显微物镜(5)依次同轴设置,所述偏振元件组(7)、滤光片(8)、聚束透镜(9)、成像透镜(11)和CCD图像传感器(13)依次同轴设置,所述待测荧光物质(2)位于含金属层芯片基底(3)上且能够被照明光源(1)发出的照明光直接辐照到,从而出射荧光,所述荧光透过含金属层芯片基底(3)、折射率匹配油(4)和显微物镜(5)后再经过反射镜(6)反射通过偏振元件组(7)与滤光片(8),从而过滤掉伴随的照明光,再经过聚束透镜(9)和成像透镜(11)收集信号于CCD图像传感器(13),所述成像透镜(11)设置于水平移动轴(10)上并能在水平移动轴(10)水平移动。
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