[实用新型]一种用于实现改善纳米级光刻工艺性能的喷嘴有效
| 申请号： | 201820599742.4 | 申请日： | 2018-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN208297928U | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 上海市锦天城律师事务所 31273 | 代理人： | 何金花 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型属于光刻用喷嘴领域，具体涉及一种用于实现改善纳米级光刻工艺性能的喷嘴，包括供给管与喷头，用以提供负型显影液；所述喷头与所述供给管连通；所述喷头包括一喷洒式喷头体，所述喷洒式喷头体的喷洒面具有处于中心处的中央分散孔、以所述中心为圆中心的第一环路径上呈散射状分配的若干第一环分散孔、以及以所述中心为圆中心的第二环路径上呈散射状分配的若干第二环分散孔，其通过控制负型显影液在喷头中用量的分配，有效实现负型显影液均匀分散，并且本申请喷嘴的结构简单、操作方便、便于维修。 | ||
| 搜索关键词： | 喷头 喷嘴 分散孔 显影液 负型 光刻工艺 供给管 纳米级 喷洒式 喷头体 散射状 圆中心 分配 本实用新型 便于维修 有效实现 喷洒面 中心处 光刻 连通 申请 | ||
【主权项】：
1.一种用于实现改善纳米级光刻工艺性能的喷嘴，包括供给管与喷头，用以提供负型显影液；所述喷头与所述供给管连通；其特征在于，所述喷头包括一喷洒式喷头体，所述喷洒式喷头体的喷洒面具有处于中心处的中央分散孔、以所述中心为圆中心的第一环路径上呈散射状分配的若干第一环分散孔、以及以所述中心为圆中心的第二环路径上呈散射状分配的若干第二环分散孔，所述第一环路径的内径小于所述第二环路径的内径，所述第二环分散孔的孔径大于所述第一环分散孔的孔径，所述第一环分散孔的孔径大于所述中央分散孔的孔径，并且所述中央分散孔至所述第一环分散孔为第一连线，所述中央分散孔至所述第二环分散孔为第二连线，所述第二连线位于相邻两个所述第一连线之间且互相不重迭。
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