[实用新型]一种用于射频前端制冷杜瓦的多层聚酰薄膜真空窗结构有效

专利信息
申请号: 201820597714.9 申请日: 2018-04-25
公开(公告)号: CN208111647U 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: 金乘进;曹洋;石向玮 申请(专利权)人: 中国科学院国家天文台
主分类号: H01P1/08 分类号: H01P1/08
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 谈杰
地址: 100012 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种用于射频前端制冷杜瓦的多层聚酰亚胺薄膜真空窗结构,所述多层聚酰亚胺薄膜真空窗结构包括若干层聚酰亚胺薄膜,相邻的所述聚酰亚胺薄膜之间设置有法兰,所述法兰以及真空窗的窗口与聚酰亚胺薄膜的接触面均设置有O型密封圈容置槽,所述O型密封圈容置槽内设置有O型密封圈。本申请与传统的单层聚酰亚胺薄膜以及薄膜与泡沫组合的技术方案相比,在多层聚酰亚胺薄膜真空窗的技术方案中,相邻腔体内部的压强差小于一个大气压,使得腔体之间的薄膜变形量减小,从而使得使用薄膜的可靠性和寿命得到提高。
搜索关键词: 聚酰亚胺薄膜 真空窗 多层 射频前端 容置槽 杜瓦 制冷 薄膜 本实用新型 薄膜变形 薄膜真空 传统的 窗结构 体内部 相邻腔 压强差 单层 法兰 减小 腔体 申请
【主权项】:
1.一种用于射频前端制冷杜瓦的多层聚酰薄膜真空窗结构,其特征在于,所述多层聚酰薄膜真空窗结构包括若干层聚酰薄膜,相邻的所述聚酰薄膜之间设置有法兰,所述法兰以及真空窗的窗口与聚酰薄膜的接触面均设置有O型密封圈容置槽,所述O型密封圈容置槽内设置有O型密封圈。
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