[实用新型]一种溅射镀膜装置

摘要

本实用新型提供了一种溅射镀膜装置，其包括真空腔体，真空腔体内设置有溅射靶材、与溅射靶材相对的被镀基体、出气装置，真空腔体的侧壁上设置有用于向真空腔体内通入溅射气体的进气孔，出气装置上设置有与进气孔相连的气体入口、至少两个与气体入口相连通的气体出口，各气体出口分布在溅射靶材的至少一侧。本实用新型的溅射镀膜装置，其使得溅射气体经进气孔、气体入口进入出气装置后能够经至少两个气体出口流出溅射气体提供给溅射靶材，有效地增加了向溅射靶材提供溅射气体的气体出口的数量，从而能够使得现有技术中溅射靶材表面受到的轰击很不均匀的现象得到较好地缓解，进而使得被镀基体上的镀膜膜层的均匀性和溅射靶材消耗的均匀性得到提高。

主权项

1.一种溅射镀膜装置，其包括真空腔体，所述真空腔体内设置有溅射靶材、与所述溅射靶材相对的被镀基体，所述真空腔体的侧壁上设置有用于向所述真空腔体内通入溅射气体的进气孔，其特征在于，其还包括出气装置，所述出气装置上设置有与所述进气孔相连的气体入口，所述出气装置上还设置有至少两个与所述气体入口相连通的气体出口，各所述气体出口分布在所述溅射靶材的至少一侧。