[实用新型]一种具有均匀的上料功能的反应釜有效
申请号: | 201820275045.3 | 申请日: | 2018-02-27 |
公开(公告)号: | CN208526571U | 公开(公告)日: | 2019-02-22 |
发明(设计)人: | 黄定杰 | 申请(专利权)人: | 无锡南泉压力容器有限公司 |
主分类号: | B01J19/00 | 分类号: | B01J19/00;B01J4/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 214000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种具有均匀的上料功能的反应釜,包括釜体以及固定设置在反应釜顶部的釜盖,所述釜盖的中部设置有具有中空结构的转轴,所述转轴的一端设置有伺服电机,所述转轴的另一端延伸到釜体的内部且设置有第一挡板,所述釜体内且处于转轴的下方处设置有第二挡板,所述第一挡板与地二挡板之间均匀设置有隔板,相邻所述隔板之间的第一挡板上均设置有第一通孔,相邻所述隔板之间的第二隔板上均设置有第二通孔,处于所述釜体外部的转轴上设置有与中空结构连通的进料管;能够使待添加的反应物均匀的洒入釜体中与釜体中的反应物均匀的混合,从而避免了由于添加不均匀导致的反应效果差的问题。 | ||
搜索关键词: | 隔板 转轴 釜体 第一挡板 中空结构 反应釜 反应物 釜盖 上料 通孔 本实用新型 反应釜顶部 挡板 第二挡板 反应效果 釜体外部 固定设置 均匀设置 伺服电机 一端设置 不均匀 进料管 连通 体内 延伸 | ||
【主权项】:
1.一种具有均匀的上料功能的反应釜,包括釜体以及固定设置在反应釜顶部的釜盖,其特征在于,所述釜盖的中部设置有具有中空结构的转轴,所述转轴的一端设置有伺服电机,所述转轴的另一端延伸到釜体的内部且设置有第一挡板,所述釜体内且处于转轴的下方处设置有第二挡板,所述第一挡板与地二挡板之间均匀设置有隔板,相邻所述隔板之间的第一挡板上均设置有第一通孔,相邻所述隔板之间的第二隔板上均设置有第二通孔,处于所述釜体外部的转轴上设置有与中空结构连通的进料管。
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