[实用新型]一种离轴光场成像系统有效
| 申请号： | 201820114847.6 | 申请日： | 2018-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN207689741U | 公开（公告）日： | 2018-08-03 |
| 发明（设计）人： | 胡晓明 | 申请（专利权）人： | 北京崭珀科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B17/06 | 分类号： | G02B17/06;G02B26/08;G02B7/182 |
| 代理公司： | 济南千慧专利事务所(普通合伙企业) 37232 | 代理人： | 苏金锋 |
| 地址： | 100094 北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种离轴光场成像系统，所述离轴光场成像系统沿成像光路依次包括离轴反射子系统、微反射镜阵列和感光器件；所述离轴反射子系统包括至少一个包含反射曲面的光学器件和与包含反射曲面的所述光学器件配合的至少一个调节机构，所述成像光路通过包含反射曲面的所述光学器件，所述至少一个调节机构配置于调节包含反射曲面的所述光学器件。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 光学器件 成像系统 离轴光 成像光路 离轴 微反射镜阵列 感光器件 机构配置 配合 | ||
【主权项】：
1.一种离轴光场成像系统，其特征在于：所述离轴光场成像系统沿成像光路依次包括离轴反射子系统、微反射镜阵列和感光器件；所述离轴反射子系统包括至少一个包含反射曲面的光学器件和与包含反射曲面的所述光学器件配合的至少一个调节机构，所述成像光路通过包含反射曲面的所述光学器件，所述至少一个调节机构配置于调节包含反射曲面的所述光学器件。
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