[实用新型]真空镀膜装置有效
| 申请号： | 201820113295.7 | 申请日： | 2018-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN207877849U | 公开（公告）日： | 2018-09-18 |
| 发明（设计）人： | 陈自新 | 申请（专利权）人： | 无锡光润真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人： | 张欢勇 |
| 地址： | 214000 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空镀膜装置，包括第一腔体和第二腔体，第二腔体可移动地设置在第一腔体中。第一腔体中设置有镀膜系统，第二腔体上设置有卷绕系统。镀膜系统包括离子源和靶体并设置在第一腔体的内壁上。卷绕系统包括第一收放卷、第二收放卷、镀膜辊和导向辊，镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜辊。第一收放卷、第二收放卷相对设置，第一镀膜辊和第二镀膜辊设置在第一收放卷和第二收放卷之间且相对设置。镀膜系统有2个，分别设置在第一镀膜辊和第二镀膜辊外侧的第一腔体的内壁上。本案中，卷绕系统中的各种辊体的设置布局使得真空镀膜装置能同时对待镀材料的双面进行镀膜，提高了镀膜工作的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 镀膜辊 收放卷 第一腔体 真空镀膜装置 第二腔体 镀膜系统 卷绕系统 相对设置 镀膜 内壁 可移动地设置 本实用新型 导向辊 镀材料 离子源 靶体 辊体 | ||
【主权项】：
1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括第一腔体和第二腔体，所述第二腔体可移动地设置在所述第一腔体中并配合形成密闭空间，所述第一腔体中设置有镀膜系统，所述第二腔体上设置有卷绕系统，所述镀膜系统包括离子源和靶体并设置在所述第一腔体的内壁上，所述卷绕系统包括第一收放卷、第二收放卷、镀膜辊和导向辊，所述镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜辊，所述导向辊用于将所述第一收放卷上的待镀材料引导卷绕到所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊上并进一步引导至所述第二收放卷上或将所述第二收放卷上的待镀材料通过所述第二镀膜辊和所述第一镀膜辊引导至所述第一收放卷上，所述第一收放卷、所述第二收放卷相对设置，所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊设置在所述第一收放卷和所述第二收放卷之间且相对设置，所述导向辊设置在所述第一收放卷和所述第二收放卷之间，所述镀膜系统有2个，分别设置在所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊外侧的第一腔体的内壁上。
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