[实用新型]一种齿科用真空电弧离子镀设备有效
| 申请号： | 201820035264.4 | 申请日： | 2018-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN207877848U | 公开（公告）日： | 2018-09-18 |
| 发明（设计）人： | 李超众;高广睿;王宝云;屈静;呼丹;刘晶 | 申请（专利权）人： | 西安赛福斯材料防护有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/54 |
| 代理公司： | 西安创知专利事务所 61213 | 代理人： | 谭文琰 |
| 地址： | 710200 陕西省西安市西安经*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种齿科用真空电弧离子镀设备，包括支撑在支撑架上的真空室、供基体安装的工件支架和设置在真空室一侧的电弧源；真空室为圆柱体结构，真空室的下方设置有用于对真空室抽真空的抽气机构，真空室的上部设置有进气口，进气口与供气机构连通；电弧源包括供靶材安装的多弧靶座、设置在多弧靶座上的引弧针和引弧线圈；工件支架竖直布设在真空室的中心。本实用新型将真空室设置为圆柱体结构，圆柱体结构的直径为φ350mm～φ370mm，高度为400mm～410mm，结构简单尺寸较小，便于维护，能够用于对齿科的小型医疗器械进行镀膜处理，采用一个电弧源进行镀膜，镀膜效率高且减少了靶材的浪费。 | ||
| 搜索关键词： | 真空室 圆柱体结构 电弧源 进气口 真空电弧离子镀 本实用新型 工件支架 靶材 靶座 齿科 小型医疗器械 真空室抽真空 抽气机构 镀膜处理 镀膜效率 供气机构 基体安装 引弧线圈 引弧针 支撑架 镀膜 对齿 竖直 连通 支撑 维护 | ||
【主权项】：
1.一种齿科用真空电弧离子镀设备，其特征在于：包括支撑在支撑架(15)上的真空室(12)、供基体安装的工件支架(14)和设置在所述真空室(12)一侧的电弧源；所述真空室(12)为圆柱体结构，所述圆柱体结构的直径为φ350mm～φ370mm，所述圆柱体结构的高度为400mm～410mm，所述真空室(12)的下方设置有用于对所述真空室(12)抽真空的抽气机构，所述真空室(12)的上部设置有进气口(6)，所述进气口(6)与供气机构连通；所述电弧源包括供靶材安装的多弧靶座(5)、设置在所述多弧靶座(5)上的引弧针(4)和引弧线圈(3)，所述多弧靶座(5)与用于触发所述靶材产生靶材离子的逆变电源连接，所述电弧源的下方设置有对所述真空室(12)进行加热的加热管(2)；所述工件支架(14)竖直布设在所述真空室(12)的中心，所述工件支架(14)的上端插装在所述真空室(12)的顶部中心处，所述工件支架(14)的下端伸入所述真空室(12)内，所述工件支架(14)的上端连接有驱动所述工件支架(14)旋转的变速电机(8)。
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