[发明专利]一种用于溅射设备真空室壁的内衬膜及制备方法在审

专利信息
申请号: 201811638327.6 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN109719021A 公开(公告)日: 2019-05-07
发明(设计)人: 周利红;黄平建 申请(专利权)人: 宁波高新区敦和科技有限公司
主分类号: B05D7/24 分类号: B05D7/24;B05D7/02;B05D7/00;C23C14/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 315040 浙江省宁波市高*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种用于溅射设备真空室壁的内衬膜及制备方法,所述内衬膜由基底层、离型层、胶粘层、薄膜层组成,所述胶粘层和所述薄膜层由可降解高分子材料组成。本发明制备的内衬膜用于保护溅射设备的真空室壁,使之免于在进行溅射工艺时被污染,使得所得真空室易于清洁,有效延长了溅射设备真空室的使用寿命,由于所用的制备材料由于主要是可降解高分子材料,所以能更为快捷再回收利用靶材材料,且不带入杂质,从而提高溅射靶材的利用率。
搜索关键词: 溅射设备 内衬膜 真空室壁 制备 可降解高分子材料 薄膜层 胶粘层 真空室 靶材材料 溅射靶材 使用寿命 制备材料 基底层 离型层 再回收 溅射 清洁 污染
【主权项】:
1.一种溅射设备真空室壁的内衬膜,其特征在于,所述内衬膜由基底层、离型层、胶粘层、薄膜层组成,所述胶粘层和由可降解高分子材料组成,所述薄膜层由甲壳素纤维和一种或数种可降解高分子材料组成。
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