[发明专利]线栅型偏光片制作方法及透明显示装置在审
| 申请号： | 201811565978.7 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN109445012A | 公开（公告）日： | 2019-03-08 |
| 发明（设计）人： | 侯俊;陈书志 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本揭示提供了一种线栅型偏光片的制作方法及透明显示装置，所述方法包括，提供基板，在所述基板上沉积形成金属层；在所述金属层上形成多个并列间隔排布的光阻条；对所述金属层进行刻蚀，形成在像素区域上并列间隔排布的多条金属线，去除所述光阻条，所述金属线构成所述线栅型偏光片。本揭示通过将传统偏光片替换为具有多条并列间隔排布金属线的线栅型偏光片，提高了偏光片透过入射光的能力以及偏振效果，同时在线栅型偏光片的W像素区域空出，使得背光源发出的光线在W像素区域不被削弱，大幅提高显示装置的穿透率和对比度，从而提升显示装置的颜色表现能力。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光片 线栅型 间隔排布 金属层 金属线 透明显示装置 显示装置 并列 光阻 基板 传统偏光 偏振效果 像素区域 颜色表现 背光源 穿透率 入射光 刻蚀 栅型 沉积 去除 制作 替换 削弱 | ||
【主权项】：
1.一种线栅型偏光片的制作方法，其特征在于，所述方法包括:S10：提供基板，在所述基板上沉积形成金属层；S20：在所述金属层上形成多个并列间隔排布的光阻条；S30：对所述金属层进行刻蚀，形成在像素区域上并列间隔排布的多条金属线，去除所述光阻条，所述多条金属线构成所述线栅型偏光片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811565978.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：量子点偏光片、显示面板和显示装置
- 下一篇：直下型背光源及其透镜导光板
