[发明专利]一种高性能立方织构金属基带及其制备方法有效
| 申请号： | 201811540577.6 | 申请日： | 2018-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN109371284B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 刘志勇;刘朋飞;黎文峰;尚淑英;刘海瑞 | 申请（专利权）人： | 河南师范大学 |
| 主分类号： | C22C14/00 | 分类号： | C22C14/00;C22C1/02;C22F1/18;C21D9/52;C23C14/16;C23C14/35;C23C14/58 |
| 代理公司： | 北京卓岚智财知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11624 | 代理人： | 郭智 |
| 地址： | 453007 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高性能立方织构金属基带及其制备方法。采用熔炼法获得Ti‑Al合金铸锭，其中Al的质量分数为7％～10％，通过冷轧得到最终厚度为30μm～40μm的冷轧Ti合金带材；将冷轧Ti合金带材固溶处理后，然后在其表面采用磁控溅射的方法沉积一层厚度为100nm～500nm的Ni‑9.3at.％W合金，其中真空度为0.2～0.8Pa，溅射功率为200W～270W；最后将磁控溅射后的合金带材进行热处理，具体工艺为：1260℃～1300℃保温15min。本发明工艺简单，且在液氮温区无铁磁性，屈服强度较高，适合织构金属基带的工业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 性能 立方 金属 基带 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种高性能立方织构金属基带，包括厚度为30μm～40μm的冷轧Ti合金带材以及在该Ti合金带材表面通过磁控溅射形成的Ni‑9.3at.％W合金薄膜，所述Ti合金带材中Al的质量分数为7％～10％，所述Ni‑9.3at.％W合金薄膜厚度为100nm～500nm，并且，在通过磁控溅射形成所述Ni‑9.3at.％W合金薄膜前，所述冷轧Ti合金带材被加热至1390℃～1420℃保温10min～15min，然后被立即空冷，在形成所述Ni‑9.3at.％W合金薄膜后，所述冷轧Ti合金带材在1260℃～1300℃的温度保温15min。
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