[发明专利]一种抗光幕布及其制备方法在审
申请号: | 201811502113.6 | 申请日: | 2018-12-10 |
公开(公告)号: | CN109557759A | 公开(公告)日: | 2019-04-02 |
发明(设计)人: | 周永南 | 申请(专利权)人: | 江阴通利光电科技有限公司 |
主分类号: | G03B21/60 | 分类号: | G03B21/60;G02B5/04 |
代理公司: | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人: | 秦华毅 |
地址: | 214411 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种抗光幕布,其包括基材层以及设于所述基材层正面的光学棱镜阵列,所述光学棱镜阵列由若干条沿水平方向的截面为三角形的棱镜紧密排布而成;其特征在于,所述棱镜的上侧面具有吸光的粗糙化微结构,所述棱镜的下侧面涂覆有反光涂层。本发明还公开了所述抗光幕布的制备方法。本发明中,所述棱镜的上侧面具有吸光的粗糙化微结构,可有效吸收来自环境的光线,增加总体吸收面积,即使不涂覆吸光材料,也能减少来自环境的反射光线避免影响下侧面反射的成像光,因此在制作时,棱镜结构表面只需在下侧面一次涂覆反光涂层即可,省去了上侧面吸光涂层的涂覆工序,可大大提高生产效率,有效降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 棱镜 幕布 上侧面 反光涂层 光学棱镜 粗糙化 微结构 下侧面 涂覆 吸光 制备 基材层正面 反射光线 紧密排布 棱镜结构 生产效率 涂覆工序 吸光材料 吸光涂层 一次涂覆 有效吸收 成像光 基材层 反射 侧面 吸收 制作 | ||
【主权项】:
1.一种抗光幕布,其包括基材层以及设于所述基材层正面的光学棱镜阵列,所述光学棱镜阵列由若干条沿水平方向的截面为三角形的棱镜紧密排布而成;其特征在于,所述棱镜的上侧面具有吸光的粗糙化微结构,所述棱镜的下侧面涂覆有反光涂层。
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