[发明专利]一种双层手性结构的制备方法有效
申请号: | 201811490968.1 | 申请日: | 2018-12-07 |
公开(公告)号: | CN109490998B | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 吕广超;薛岩;张岩;刘凯;王天堃 | 申请(专利权)人: | 吉林大学第一医院 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00 |
代理公司: | 重庆晟轩知识产权代理事务所(普通合伙) 50238 | 代理人: | 孔玲珑 |
地址: | 130000*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及微纳结构制备领域,具体涉及一种双层手性结构的制备方法,主要制备步骤包括准备玻璃基底、甩胶、曝光、显影定影、蒸镀金属材料和剥离光刻胶。该制备双层手性结构的方法只需要曝光一次,蒸镀一次就可以得到双层结构,并且上下层间距也可以在蒸镀过程中进行调节。该制备方法简便易操作,制备的双层结构精确度高。 | ||
搜索关键词: | 一种 双层 手性 结构 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种双层手性结构的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:准备玻璃基底(100):准备ITO玻璃基底(100)并清洗吹干;涂覆光刻胶:用甩胶机在所述基底(100)的表面甩两层光刻胶层;电子束曝光结构图形:用图形发生器设计矩形周期阵列结构,所述矩形周期阵列结构的每个单元结构由第一矩形(1)、第二矩形(2)和第三区域(3)组成,所述第一矩形(1)和第二矩形(2)垂直设置,且有一角相接,该每个单元结构除过第一矩形(1)和第二矩形(2)的部分为第三区域(3);设计好图形之后,用扫描电子显微镜曝光第一矩形(1)和第三区域(3),对不同区域曝光的深度不同;显影定影:先用正胶显影定影液进行处理,再用负胶显影定影液进行处理;蒸镀金属:采用电子束真空蒸发镀膜仪垂直蒸镀金属材料(103);剥离光刻胶:用负胶剥离液对负胶(102)进行lift‑off工艺。
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