[发明专利]一种射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法有效
| 申请号： | 201811476575.5 | 申请日： | 2018-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN111276749B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 李硕;谭飞虎;梁晓平;魏峰;杜军 | 申请（专利权）人： | 有研工程技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | H01M10/058 | 分类号： | H01M10/058;C23C14/04;C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 刘秀青 |
| 地址： | 101407 北京市怀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法。该方法包括以下步骤：(1)设计在不同径向尺寸上相同电池形状的掩模版；(2)在衬底基片上覆盖掩模版，在磁控溅射设备上装样，安装靶材；(3)射频磁控溅射法溅射正极集流体、正极、电解质、负极、负极集流体，制备薄膜电池；(4)对不同径向尺寸上获得的电池分别进行充放电性能测试；(5)分析获得径向性能最优的区域。采用本发明的方法通过对不同径向尺寸上获得的薄膜电池进行性能分析，可以获得具有最佳性能的径向区域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射频 磁控溅射 法制 性能 固态 薄膜 锂电池 方法 | ||
【主权项】：
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