[发明专利]一种射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法有效
| 申请号: | 201811476575.5 | 申请日: | 2018-12-04 |
| 公开(公告)号: | CN111276749B | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
| 发明(设计)人: | 李硕;谭飞虎;梁晓平;魏峰;杜军 | 申请(专利权)人: | 有研工程技术研究院有限公司 |
| 主分类号: | H01M10/058 | 分类号: | H01M10/058;C23C14/04;C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 刘秀青 |
| 地址: | 101407 北京市怀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 射频 磁控溅射 法制 性能 固态 薄膜 锂电池 方法 | ||
1.一种射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
(1)设计在不同径向尺寸上相同电池形状的掩模版,所述掩模版的直径为52mm,其设计方式为:在半径为r=3.54mm,7.91mm,12.75mm,17.68mm,22.64mm的位置分别布局直径为3mm的圆形电池孔洞模型;
(2)在衬底基片上覆盖掩模版,在磁控溅射设备上装样,安装靶材;
(3)射频磁控溅射法溅射正极集流体、正极、电解质、负极、负极集流体,制备薄膜电池;
(4)对不同径向尺寸上获得的电池分别进行充放电性能测试;
(5)分析获得径向性能最优的区域。
2.根据权利要求1所述的射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法,所用衬底基片的尺寸与掩模版的尺寸相同,溅射过程中衬底基片的温度为室温。
3.根据权利要求1所述的射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法,所用靶材尺寸为3.2×60mm,铜背板尺寸为2×60mm。
4.根据权利要求1所述的射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法,所述步骤(3)中,正极集流体为Pt靶,正极靶材为LiMn2O4,电解质靶材为Li3PO4,负极靶材为Li4Ti5O12,负极集流体为Pt靶。
5.根据权利要求1所述的射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法,所述步骤(3)中,射频磁控溅射法制备薄膜电池时真空度为5×10-4,其中正极集流体、负极集流体、正极、负极镀覆过程中通入2Pa氩气,气体流量保持30sccm;电解质镀覆过程中通入2Pa氮气,气体流量保持30sccm。
6.根据权利要求1所述的射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法,所述步骤(3)中,正极集流体、正极、电解质、负极、负极集流体的溅射功率分别为70w,时长分别为20min,150min,180min,150min,20min。
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