[发明专利]形成用于进行间隔物界定图案化的竖直间隔物的方法

摘要

一种形成用于间隔物界定多重图案化的竖直间隔物的方法，其包括：在模板上沉积具有第一膜应力的第一共形图案转移膜，并且连续地沉积具有第二膜应力的第二共形图案转移膜；对所述模板中除芯材料和所述第一图案转移膜和所述第二图案转移膜的竖直部分以外的部分进行干式蚀刻以形成竖直间隔物；以及对所述芯材料进行干式蚀刻，从而在所述竖直间隔物之间形成空白空间，其中通过调整所述第一图案转移膜与所述第二图案转移膜之间的膜应力差异，调整所述间隔物的倾斜角度。

主权项

1.一种形成用于进行间隔物界定图案化的间隔物的方法，所述方法在包含以下的步骤中进行：(i)将图案转移膜沉积在模板上，所述模板具有由在下方层上形成的心轴图案化的表面；(ii)对整个上表面覆盖有所述图案转移膜的所述模板进行干式蚀刻，并且由此选择性地去除在所述心轴的顶部上形成的所述图案转移膜的顶部部分和在所述下方层上形成的所述图案转移膜的水平部分，同时留下所述心轴作为芯材料并且留下在所述心轴的侧壁上形成的所述图案转移膜的侧壁部分作为间隔物；以及(iii)对所述芯材料进行干式蚀刻，从而形成空白空间，所述模板由此具有由所述间隔物在所述下方层上图案化的表面，所述间隔物以第一倾斜角度朝向所述空白空间向内倾斜，所述第一倾斜角度被定义为如相对于竖直于所述空白空间的底部的线所测量的，每一侧壁部分的内表面的角度，其中倾斜角度为零表示完全竖直并且倾斜角度为正值表示向内倾斜，其中所述改进包含：在步骤(i)中，使在深度方向上具有不同膜应力的共形图案转移膜沉积作为所述图案转移膜，其中所述共形图案转移膜的下半部具有第一膜应力，并且所述共形图案转移膜的上半部具有第二膜应力，其中所述第一膜应力比所述第二膜应力更加压缩，由此在步骤(iii)中，所述间隔物以小于所述第一倾斜角度的第二倾斜角度朝向所述空白空间向内倾斜。