[发明专利]分子束外延用氮化硼坩埚清洗方法在审
| 申请号： | 201811421686.6 | 申请日： | 2018-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN109530365A | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 周朋;刘铭;强宇;邢伟荣 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
| 主分类号： | B08B9/093 | 分类号： | B08B9/093;B08B9/08;F26B21/00 |
| 代理公司： | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人： | 齐洁茹 |
| 地址： | 100015*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种分子束外延用氮化硼坩埚清洗方法。所述方法包括：确定坩埚在使用时所盛装的原料，依据盛装的原料对所述坩埚进行预处理，获得预处理后的坩埚；对所述预处理后的坩埚依次进行腐蚀清洗处理、煮沸处理和干燥处理，获得清洁的坩埚。本发明中的方法可以对使用后的PBN坩埚进行清洗，根据坩埚在使用时所装的原料的不同，使用不同的化学试剂和方法进行预处理，使得经过预处理后的坩埚更加洁净，然后再依次进行腐蚀清洗处理和干燥处理。利用本发明中的方法清洗PBN坩埚，能够使PBN坩埚重复利用于分子束外延设备中，保证清洗后的坩埚在盛装原料时，满足分子束外延系统对源料纯度的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 坩埚 预处理 清洗 氮化硼坩埚 分子束外延 干燥处理 清洗处理 盛装 分子束外延设备 分子束外延系统 腐蚀 化学试剂 盛装原料 重复利用 煮沸 源料 洁净 清洁 保证 | ||
【主权项】：
1.一种分子束外延用氮化硼坩埚清洗方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：确定坩埚在使用时所盛装的原料，依据盛装的原料对所述坩埚进行预处理，获得预处理后的坩埚；对所述预处理后的坩埚依次进行腐蚀清洗处理、煮沸处理和干燥处理，获得清洁的坩埚。
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