[发明专利]一种用于非金属表面化学镀的铜盐敏化活化方法在审
申请号: | 201811403844.5 | 申请日: | 2018-11-23 |
公开(公告)号: | CN109321901A | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
发明(设计)人: | 钱逊;苏超然;苏永庆;岳志麟 | 申请(专利权)人: | 云南师范大学 |
主分类号: | C23C18/24 | 分类号: | C23C18/24;C23C18/28;C23C18/40 |
代理公司: | 昆明今威专利商标代理有限公司 53115 | 代理人: | 赛晓刚 |
地址: | 650500 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明涉及一种非金属表面化学镀的工艺方法,属材料表面工程技术领域,其特征在于非金属表面化学镀的工艺过程为:工件→前处理→水洗→铜盐敏化活化→水洗→化学镀→后处理(电镀),其中在前处理后需进行铜盐敏化活化过程,即将经前处理后的工件放入CuSO4溶液中浸泡,让Cu2+离子浸入到工件表面的微观孔隙或裂纹中,再放到含有还原剂甲醛的碱溶液中,使孔隙或裂纹中Cu2+离子还原为铜分子并沉积在孔隙或裂纹中,形成后续化学镀的晶体生长所需的晶核。本发明由于不使用贵金属钯和银,能节约贵金属资源,降低生产成本,操作简便。本发明所制备的非金属表面上的铜层,与基体结合良好,组织成分均匀。 | ||
搜索关键词: | 化学镀 非金属表面 前处理 活化 敏化 铜盐 离子 材料表面工程 贵金属资源 还原剂甲醛 后处理 浸入 工件表面 工艺过程 贵金属钯 晶体生长 微观孔隙 电镀 碱溶液 铜分子 沉积 放入 晶核 铜层 制备 还原 浸泡 节约 | ||
【主权项】:
1.一种用于非金属表面化学镀的铜盐敏化活化方法,其特征在于非金属表面化学镀的工艺过程为:工件→前处理→水洗→铜盐敏化活化→水洗→化学镀→后处理(电镀),其中在前处理后需进行铜盐敏化活化过程,即将经前处理后的工件放入CuSO4溶液中浸泡,让Cu2+离子浸入到工件表面的微观孔隙或裂纹中,再放到含有还原剂甲醛的碱溶液中,使孔隙或裂纹中Cu2+离子还原为铜分子并沉积在孔隙或裂纹中,形成后续化学镀的晶体生长所需的晶核。所述前处理、化学镀和后处理过程均可采用传统的非金属表面化学镀的方法。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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