[发明专利]一种同步加速器及其注入装置和注入方法有效
申请号: | 201811366873.9 | 申请日: | 2018-11-16 |
公开(公告)号: | CN109379830B | 公开(公告)日: | 2020-01-21 |
发明(设计)人: | 姚红娟;郑曙昕;关遐令;王学武 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | H05H13/04 | 分类号: | H05H13/04;H05H7/08 |
代理公司: | 11262 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张京波;曲鹏 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种同步加速器及其注入装置和注入方法,注入装置包括上游直线节、第一偏转磁铁、注入直线节、第二偏转磁铁和下游直线节,上游直线节、第一偏转磁铁、注入直线节、第二偏转磁铁和下游直线节依次相连接,制造简单、操作方便,通过采用电荷态变化的方法突破刘维定理的限制,能够增加注入圈数、提高注入效率,从而大大提高同步加速器中质子的储存数目,可使粒子数达到2*10 | ||
搜索关键词: | 偏转 磁铁 同步加速器 注入装置 注入效率 上游 电荷态 粒子数 质子 圈数 储存 制造 | ||
【主权项】:
1.一种同步加速器的注入装置,其特征在于,包括上游直线节、第一偏转磁铁、具有剥离膜设备的注入直线节、第二偏转磁铁和下游直线节,所述上游直线节、所述第一偏转磁铁、所述注入直线节、所述第二偏转磁铁和所述下游直线节依次相连接;所述注入直线节包括:/n依次相连接的第一直流凸起二极磁铁、第二直流凸起二极磁铁和第三直流凸起二极磁铁;/n第一水平聚焦四极磁铁,连接所述第一直流凸起二极磁铁和所述第一偏转磁铁;/n第二水平散焦四极磁铁,连接所述第三直流凸起二极磁铁和所述第二偏转磁铁;和/n所述剥离膜设备,设置在所述第二直流凸起二极磁铁和所述第三直流凸起二极磁铁之间。/n
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