[发明专利]无掩模曝光方法和设备以及制造半导体装置的方法在审
| 申请号： | 201811351362.X | 申请日： | 2018-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN109856924A | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 李相珉;朴相玄;朱愿暾 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 赵南;张帆 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本申请提供一种无掩模曝光方法、一种无掩模曝光设备和一种制造半导体装置的方法。无掩模曝光方法包括:将从光源输出的光空间调制成具有掩模图案的图案光束；将调制的图案光束会聚成第一组点光束和第二组点光束，第一组点光束在实质上与目标层的曝光表面垂直的Z轴上具有第一焦点位置，第二组点光束具有与第一焦点位置不同的第二焦点位置；并且利用第一组点光束和第二组点光束扫描目标层。目标层具有第一高度和与第一高度不同的第二高度。 | ||
| 搜索关键词： | 无掩模曝光 焦点位置 目标层 半导体装置 图案光束 无掩模曝光设备 方法和设备 光束扫描 光源输出 曝光表面 掩模图案 垂直的 光空间 调制 制造 会聚 申请 | ||
【主权项】：
1.一种无掩模曝光方法，包括：将从光源输出的光空间调制成具有掩模图案的图案光束；将调制的图案光束会聚成第一组点光束和第二组点光束，所述第一组点光束在实质上与目标层的曝光表面垂直的Z轴上具有第一焦点位置，所述第二组点光束具有与所述第一焦点位置不同的第二焦点位置；以及利用所述第一组点光束和所述第二组点光束扫描所述目标层，其中，所述目标层具有第一高度和不同于所述第一高度的第二高度。
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