[发明专利]大尺寸碳化硅单晶板的制备方法在审

专利信息
申请号: 201811336091.0 申请日: 2018-11-12
公开(公告)号: CN109112615A 公开(公告)日: 2019-01-01
发明(设计)人: 王书杰;孟静 申请(专利权)人: 孟静
主分类号: C30B15/34 分类号: C30B15/34;C30B29/36
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 050000 河北省石家庄市*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种大尺寸碳化硅单晶板的制备方法,涉及半导体材料制备方法技术领域。所述方法通过助溶剂导模法制备大尺寸碳化硅单晶板,并设计了一种SiC/Cr导电模具,SiC/Cr导模模具将熔体以界面张力吸引至毛细方孔结构中,通过毛细方孔结构加热进一步提高碳的溶解度,碳化硅晶体在毛细方孔结构中的熔体中进行定向生长,同时SiC/Cr导模不断溶解向熔体中提供Si原子及C原子,碳化硅晶体侧面有水冷装置用以提高碳化硅晶体的界面生长稳定性,在碳化硅晶体生长出部分通过温度梯度迁移消除夹杂缺陷,具有成本低,制备的碳化硅晶体尺寸大,且质量高等优点。
搜索关键词: 碳化硅晶体 碳化硅单晶 方孔 毛细 熔体 制备 导模 半导体材料 制备方法技术 导电模具 导模模具 定向生长 界面生长 水冷装置 温度梯度 溶解度 助溶剂 夹杂 加热 溶解 迁移 侧面 生长 吸引
【主权项】:
1.一种大尺寸碳化硅单晶板的制备方法,使用大尺寸碳化硅单晶板的制备装置,其特征在于,包括如下步骤:按比例将Si‑Cr‑C放置到坩埚(1)中,通过冷却板循环注水管(5)及冷却板循环回水管(15)向冷却板(7)中通入循环水,给助熔金属迁移低温加热器(3)和助熔金属迁移高温加热器(17)通电加热;通过主加热器(8)对坩埚内的Si料、Cr料及C粉料加热形成Si‑Cr‑C熔体(9),加热温度为2000K‑2100K;通过第一辅助加热电极(6)和第二辅助加热电极(14)给毛细方管结构中的Si‑Cr‑C熔体(9)加热,熔体通过毛细方管结构(24)的毛细作用传输至碳化硅单晶板(20)的下表面,通过炉体外的提拉杆提拉驱动装置将碳化硅单晶板(20)向上缓慢提拉,提拉时需保证碳化硅单晶板(20)的下表面始终与所述Si‑Cr‑C熔体(9)相接触;随着碳化硅单晶板(20)向上生长,当碳化硅单晶板(20)运动到助熔金属迁移低温加热器(3)与助熔金属迁移高温加热器(17)之间后,夹杂在碳化硅单晶板(20)内部的助熔金属Cr将迁移至助熔金属迁移高温加热器(17)侧,并从碳化硅单晶板(20)中析出,形成助熔液态金属(18)并流下,通过清理导向轮(4)阻止熔液态金属(18)滴落到冷却板(16)或者SiC/Cr导电模具上,干扰碳化硅单晶板(20)与Si‑Cr‑C熔体(9)接触面的稳定性;滴下的助溶金属(16)将经过清理导向轮(4)与清理导向轮支撑板(2)下端之间的间隙进入Si‑Cr‑C熔体(9)中;随着碳化硅单晶板(20)的生长,所述SiC/Cr导模块(12)、第一辅助加热电极(6)和第二辅助加热电极(14)会逐渐溶解并使得毛细方管结构(24)尺寸变大;根据第一辅助加热电极(6)与第二辅助加热电极(14)之间的电阻值,通过程序控制系统控制第一辅助加热电极(6)和第二辅助加热电极(14)之间的距离,保障毛细方管结构(24)尺寸不变;随着所述SiC/Cr导模块(12)的消耗,碳化硅单晶板(20)将不断生长,当随着所述SiC/Cr导模块(12)消耗接近完毕后,将第一辅助加热电极(6)和第二辅助加热电极(14)之间的距离变大,使得毛细方管结构(24)尺寸变大,所述毛细方管结构中的Si‑Cr‑C熔体(9)回流至坩埚(10)中;提出第一辅助加热电极(6)、第二辅助加热电极(14)以及所述SiC/Cr导模块(12),停止主加热器(8)加热,助熔金属迁移低温加热器(3)以及助熔金属迁移高温加热器(17)停止加热;更换第一辅助加热器电极(6)、第二辅助加热器电极(14)及所述SiC/Cr导模块(12),使之与所述导模夹块形成新的SiC/Cr导电模具,然后重复上述步骤,继续进行生长,完成大尺寸碳化硅单晶板的生长。
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