[发明专利]一种对氯霉素类污染物光催化快速脱毒的方法有效
| 申请号： | 201811332399.8 | 申请日： | 2018-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN109205961B | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 杨利明;陈政霖;杨丽霞;罗胜联 | 申请（专利权）人： | 南昌航空大学 |
| 主分类号： | C02F9/14 | 分类号： | C02F9/14;C02F101/36 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人： | 岳泉清 |
| 地址： | 330063 江*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 一种对氯霉素类污染物光催化快速脱毒的方法，它涉及一种对氯霉素类污染物脱毒的方法。本发明是要解决现有的紫外光降解氯霉素污染物耗时长，效率低的技术问题。本发明：一、紫外光降解；二、微生物矿化分解。本发明的反应条件温和、成本低、首先经过紫外光照射10min～15min脱去毒性光能团，然后用微生物生命活动将氯霉素完全代谢矿化分解成可为自然界接受的水和二氧化碳，实现快速脱毒，降解率达到100％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氯霉素 污染物 光催化 快速 脱毒 方法 | ||
【主权项】：
1.一种对氯霉素光催化快速脱毒的方法，其特征在于对氯霉素光催化快速脱毒的方法是按以下步骤进行的：一、紫外光降解：将待降解的氯霉素溶液用紫外光照射10min～15min；二、将细菌接种到LB液态培养基中，然后加入步骤一中经过紫外光照射后的氯霉素溶液进行矿化分解10h～12h，即完成对氯霉素光催化快速脱毒；所述的细菌与LB液态培养基的体积比为1:(300～310)；所述的步骤一中经过紫外光照射后的氯霉素溶液与步骤二中所述的LB液态培养基的体积比为1:(6～7)。
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