[发明专利]一种对氯霉素类污染物光催化快速脱毒的方法有效

专利信息
申请号: 201811332399.8 申请日: 2018-11-09
公开(公告)号: CN109205961B 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 杨利明;陈政霖;杨丽霞;罗胜联 申请(专利权)人: 南昌航空大学
主分类号: C02F9/14 分类号: C02F9/14;C02F101/36
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 岳泉清
地址: 330063 江*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 氯霉素 污染物 光催化 快速 脱毒 方法
【说明书】:

一种对氯霉素类污染物光催化快速脱毒的方法,它涉及一种对氯霉素类污染物脱毒的方法。本发明是要解决现有的紫外光降解氯霉素污染物耗时长,效率低的技术问题。本发明:一、紫外光降解;二、微生物矿化分解。本发明的反应条件温和、成本低、首先经过紫外光照射10min~15min脱去毒性光能团,然后用微生物生命活动将氯霉素完全代谢矿化分解成可为自然界接受的水和二氧化碳,实现快速脱毒,降解率达到100%。

技术领域

本发明涉及一种对氯霉素类污染物脱毒的方法。

背景技术

氯霉素是一种广谱抗生素,具有优良的抗菌性能,自20世纪50年代以来一直被广泛用于抑制革兰氏阳性和革兰氏阴性细菌,由于氯霉素还可与人体线粒体的70S结合,因而也可抑制人体线粒体的蛋白合成,对人体产生毒性。由于氯霉素的成本低、获取方便等特点,导致氯霉素在畜牧业和水产养殖业中得到了广泛的应用,而污水处理厂无法完全降解处理氯霉素的毒性,由于对人类的严重毒性,许多国家已禁止在生产食品的动物中使用氯霉素,所以,目前最为紧要的是寻求一种有效的物理化学方法能够使氯霉素在排放前能够达到脱毒的标准。

为了消除水中的氯霉素,在已有的报道中一些先进技术包括零价双金属催化氧化、竹炭吸附、半导体材料的催化氧化还原,对于直接紫外光降解,已有的实验研究表明单线态氧是紫外光降解氯霉素类抗生素最重要的原因之一。

发明内容

本发明是要解决现有的紫外光降解氯霉素污染物耗时长,效率低的技术问题,而提供一种对氯霉素光催化快速脱毒的方法。

本发明的对氯霉素光催化快速脱毒的方法是按以下步骤进行的:

一、紫外光降解:将待降解的氯霉素溶液用紫外光照射10min~15min;

二、将细菌接种到LB液态培养基中,然后加入步骤一中经过紫外光照射后的氯霉素溶液进行矿化分解10h~12h,即完成对氯霉素光催化快速脱毒;

所述的细菌与LB液态培养基的体积比为1:(300~310);

所述的步骤一中经过紫外光照射后的氯霉素溶液与步骤二中所述的LB液态培养基的体积比为1:(6~7)。

本发明的优点是:

(1)本发明的反应条件温和、成本低、性价比高,首先经过紫外光照射10min~15min脱去毒性光能团,然后用微生物生命活动将氯霉素完全代谢矿化分解成可为自然界接受的水和二氧化碳,实现快速脱毒,降解率达到100%;

(2)本发明区别于传统材料催化和纯光催化副产物毒性的问题,本发明方法不受温度压力等外界条件影响,操作简易,对抗生素氯霉素类污染物有良好的脱毒效果,对光催化降解氯霉素类污染物的研究有重要的推进作用;

(3)本发明方法具有可塑性,与紫外光结合的基底材料可为其他具有良好氧化还原性能的材料,例如半导体光催化材料,具有良好光、电性能的其他粉末固体材料。

附图说明

图1为试验一中对氯霉素单独光照射的降解数据表征图;

图2为大肠杆菌的生长情况OD600数据图;

图3为MR-1菌的生长情况OD600数据图

具体实施方式

具体实施方式一:本实施方式为一种对氯霉素光催化快速脱毒的方法,具体是按以下步骤进行的:

一、紫外光降解:将待降解的氯霉素溶液用紫外光照射10min~15min;

二、将细菌接种到LB液态培养基中,然后加入步骤一中经过紫外光照射后的氯霉素溶液进行矿化分解10h~12h,即完成对氯霉素光催化快速脱毒;

所述的细菌与LB液态培养基的体积比为1:(300~310);

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