[发明专利]一种双平台全周打磨抛光装置及方法在审
申请号: | 201811308840.9 | 申请日: | 2018-11-05 |
公开(公告)号: | CN109590868A | 公开(公告)日: | 2019-04-09 |
发明(设计)人: | 王华 | 申请(专利权)人: | 王华 |
主分类号: | B24B27/00 | 分类号: | B24B27/00;B24B55/06 |
代理公司: | 厦门市新华专利商标代理有限公司 35203 | 代理人: | 范小艳;徐勋夫 |
地址: | 523000 广东省东莞*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开一种双平台全周打磨抛光装置及方法,包括第一打磨抛光单元、第二打磨抛光单元及主控单元;第一、第二打磨抛光单元围绕一打磨抛光区布置;打磨抛光区设置有第一、第二端工位点;第一打磨抛光单元以第一端工作点为打磨抛光起点、第二端工位点为打磨抛光终点,第一打磨抛光单元于打磨抛光区的一侧往复位移于第一、第二端工位点之间;所述第二打磨抛光单元以第二端工作点为打磨抛光起点、第一端工位点为打磨抛光终点,第二打磨抛光单元于打磨抛光区的另一侧往复位移于第一、第二端工位点之间;如此,实现了对工件的周向打磨抛光,大幅提升了作业效率,降低人工成本,同时,提高了打磨抛光质量,避免出现打磨抛光局部不到位,适于推广应用。 | ||
搜索关键词: | 打磨抛光 工位 打磨抛光装置 往复位移 第一端 工作点 双平台 人工成本 主控单元 作业效率 | ||
【主权项】:
1.一种双平台全周打磨抛光装置,其特征在于:包括有第一打磨抛光单元、第二打磨抛光单元及主控单元,所述主控单元分别连接于第一打磨抛光单元、第二打磨抛光单元;第一打磨抛光单元、第二打磨抛光单元围绕一打磨抛光区布置;所述打磨抛光区设置有第一端工作点、第二端工位点;所述第一打磨抛光单元以第一端工作点为打磨抛光起点、第二端工位点为打磨抛光终点,第一打磨抛光单元于打磨抛光区的一侧往复位移于第一端工作点、第二端工位点之间;所述第二打磨抛光单元以第二端工作点为打磨抛光起点、第一端工位点为打磨抛光终点,第二打磨抛光单元于打磨抛光区的另一侧往复位移于第一端工作点、第二端工位点之间。
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