[发明专利]一种屏蔽膜及其制造方法在审
| 申请号： | 201811308137.8 | 申请日： | 2018-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN111148418A | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 刘艳花 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00;B41M1/26;B41M3/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮 |
| 地址： | 215131 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种屏蔽膜及其制造方法，所述屏蔽膜包括一基材层、至少一层聚合物层、两层屏蔽层以及两层吸波层，所述基材层与所述聚合物层连接或通过一层吸波层与所述聚合物层连接，所述基材层朝向所述聚合物层的一面具有若干凹槽，所述聚合物层远离所述基材层的一面具有若干凹槽，所述凹槽中填充屏蔽材料形成所述屏蔽层。且当所述基材层与所述聚合物层连接时，所述吸波层至少覆盖所述屏蔽层，或至少覆盖所述屏蔽层及所述聚合物层具有所述凹槽的一面；当所述基材层通过一层吸波层与所述聚合物层连接时，所述吸波层覆盖所述吸屏蔽层及所述基材层具有所述凹槽的一面。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 屏蔽 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
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