[发明专利]位置检测装置有效
申请号: | 201811284096.3 | 申请日: | 2018-10-31 |
公开(公告)号: | CN109724506B | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 梅原刚;宫下勇人;内田圭祐;平林启 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社 |
主分类号: | G01B7/00 | 分类号: | G01B7/00 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 位置检测装置具备第一位置检测器、第二位置检测器以及信号生成器。第一位置检测器具备第一磁场产生部、第二磁场产生部以及第一磁传感器。第二位置检测器具备第三磁场产生部、第四磁场产生部以及第二磁传感器。第二及第四磁场产生部的位置与检测对象位置的变化相对应地变化。信号生成器生成第一磁传感器生成的第一检测信号和第二磁传感器生成的第二检测信号之和即位置检测信号。第一及第二位置检测器分别具备偏置磁场产生部。 | ||
搜索关键词: | 位置 检测 装置 | ||
【主权项】:
1.一种位置检测装置,其特征在于,是用于检测在规定的可动范围内变化的检测对象位置的位置检测装置,具备:第一位置检测器;第二位置检测器;以及生成与所述检测对象位置对应的位置检测信号的信号生成器,所述第一位置检测器具备产生第一磁场的第一磁场产生部、产生第二磁场的第二磁场产生部、以及第一磁传感器,所述第二位置检测器具备产生第三磁场的第三磁场产生部、产生第四磁场的第四磁场产生部、以及第二磁传感器,所述第一磁传感器在第一基准平面内的第一检测位置上检测作为与所述第一基准平面平行的磁场成分的第一检测对象磁场,生成大小与所述第一检测对象磁场的方向相对应地发生变化的第一检测信号,所述第二磁传感器在第二基准平面内的第二检测位置上检测作为与所述第二基准平面平行的磁场成分的第二检测对象磁场,生成大小与所述第二检测对象磁场的方向相对应地发生变化的第二检测信号,所述信号生成器将所述第一检测信号和所述第二检测信号之和设为所述位置检测信号,所述第二磁场产生部相对于所述第一磁场产生部的相对的位置、和所述第四磁场产生部相对于所述第三磁场产生部的相对的位置与所述检测对象位置的变化相对应地发生变化,在将所述第一检测位置上的、与所述第一基准平面平行的所述第一磁场的成分设为第一磁场成分,将所述第一检测位置上的、与所述第一基准平面平行的所述第二磁场的成分设为第二磁场成分时,在所述检测对象位置发生变化的情况下,所述第一磁场成分的强度及方向和所述第二磁场成分的方向没有发生变化,而所述第二磁场成分的强度发生变化,在将所述第二检测位置上的、与所述第二基准平面平行的所述第三磁场的成分设为第三磁场成分,将所述第二检测位置上的、与所述第二基准平面平行的所述第四磁场的成分设为第四磁场成分时,在所述检测对象位置发生变化的情况下,所述第三磁场成分的强度及方向和所述第四磁场成分的方向没有发生变化,而所述第四磁场成分的强度发生变化,所述第三磁场成分的方向是与所述第一磁场成分的方向相反方向,所述第四磁场成分的方向是与所述第二磁场成分的方向相反方向,在将所述第一检测对象磁场的方向变化了360°时的所述第一检测信号的最大值和最小值的平均值设为第一基准值,将所述第二检测对象磁场的方向变化了360°时的所述第二检测信号的最大值和最小值的平均值设为第二基准值时,与所述检测对象位置的规定的可动范围对应的所述第一检测信号的可变范围包含所述第一基准值,与所述检测对象位置的规定的可动范围对应的所述第二检测信号的可变范围包含所述第二基准值。
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