[发明专利]一种梳型聚羧酸陶瓷助磨剂及其制备方法与应用在审
申请号: | 201811280046.8 | 申请日: | 2018-10-30 |
公开(公告)号: | CN109320657A | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
发明(设计)人: | 王斌;程菲;黄月文;冯颖;苏琴琴 | 申请(专利权)人: | 中科院广州化学有限公司南雄材料生产基地;中科院广州化学有限公司;中国科学院大学 |
主分类号: | C08F222/06 | 分类号: | C08F222/06;C08F220/06;C08F216/14;C08F8/44;B02C23/06 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 雷月华 |
地址: | 512400 广东省韶关市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明属于陶瓷助磨剂技术领域,具体涉及一种梳型聚羧酸陶瓷助磨剂及其制备方法与应用。该陶瓷助磨剂由溶质和稀释剂组成,其中溶质是由双键及羧酸官能团小分子单体和含双键的聚乙二醇衍生物通过聚合反应制备而得。该溶质以传统的羧酸官能团聚合物为基本骨架,具有克服陶瓷颗粒之间的吸附和静电作用,可提高研磨效率,降低能耗。此外,该溶质含有乙二醇衍生物梳型侧链,该侧链在空间中可发生空间位阻作用,减少研磨时的颗粒团聚,降低颗粒硬度,提高研磨效果。因此,本发明制备的陶瓷助磨剂较传统的陶瓷助磨剂具有掺量更低,分散助磨效果更好的优点。 | ||
搜索关键词: | 助磨剂 陶瓷 溶质 制备 梳型 羧酸官能团 研磨 传统的 聚羧酸 侧链 双键 聚乙二醇衍生物 空间位阻作用 乙二醇衍生物 稀释剂组成 小分子单体 基本骨架 静电作用 聚合反应 颗粒团聚 颗粒硬度 陶瓷颗粒 研磨效率 聚合物 掺量 吸附 助磨 应用 | ||
【主权项】:
1.一种梳型聚羧酸陶瓷助磨剂,包括溶质和稀释剂,其特征在于:所述的溶质具有以下任一种结构式:
其中,R1、R5和R6为H或烷烃基;R2为H或Na;R3为n个亚烷烃基(烷烃失去两个氢,n≥0且为整数);R4为H、Na或烷烃基;m,x,y,z≥1且为整数;稀释剂为水或/和乙醇;所述的溶质的浓度为3~10wt.%。
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