[发明专利]确定光刻光源的方法、装置及模型训练方法、装置有效
| 申请号： | 201811259558.6 | 申请日： | 2018-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN109143796B | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 马乐;韦亚一;张利斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 赵秀芹;王宝筠 |
| 地址： | 100029 北京市朝阳*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种确定光刻光源的方法、装置及模型训练方法、装置，该方法中，首先将待光刻版图按照特定尺寸进行切分，形成多个版图块，然后利用训练好的卷积神经网络模型对各个版图块进行处理，分别得到各个版图块的对应光源；最后，根据所述各个版图块的对应光源确定所述待光刻版图的光刻光源。因此，在本申请提供的方法中，无需每次采用仿真软件计算版图中各个代表图形的光刻工艺窗口，而是利用卷积神经网络模型即可确定出待光刻版图的光刻光源。该方法在确定待光刻版图的光刻光源过程中，提高了确定光刻光源的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 光刻 光源 方法 装置 模型 训练 | ||
【主权项】：
1.一种确定光刻光源的方法，其特征在于，包括：获取待光刻版图；将所述待光刻版图按照特定尺寸进行切分，形成M个版图块；所述特定尺寸为卷积神经网络模型训练时用到的版图尺寸；根据训练好的卷积神经网络模型对m个所述版图块进行处理，分别得到各个版图块的对应光源；根据所述各个版图块的对应光源确定所述待光刻版图的光刻光源；其中，2≤m≤M，且m与M均为整数。
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