[发明专利]掩模的形成方法

摘要

本发明实施例提供形成掩模的方法。此方法包括在透明基板之上形成遮光层。此方法包括在遮光层之上形成遮罩层。遮罩层覆盖遮光层的第一部分，且第一部分位于透明基板的第二部分之上。此方法包括去除没有被遮罩层覆盖的遮光层。此方法包括去除遮罩层。在去除遮罩层期间，去除遮光层的第一部分。此方法包括去除透明基板的第二部分，以在透明基板中形成第一凹槽。此方法包括在第一凹槽中形成第一遮光结构。

主权项

1.一种掩模的形成方法，包括:在一透明基板之上形成一遮光(light blocking)层；在该遮光层之上形成一遮罩层，其中该遮罩层覆盖该遮光层的一第一部分，且该第一部分位于该透明基板的一第二部分之上；去除没有被该遮罩层覆盖的该遮光层；去除该遮罩层，其中在去除该遮罩层期间，去除该遮光层的该第一部分；去除该透明基板的该第二部分，以在该透明基板中形成一第一凹槽；以及在该第一凹槽中形成一第一遮光结构。