[发明专利]仿真设备、仿真系统、仿真方法和仿真程序在审
申请号: | 201811217211.5 | 申请日: | 2018-10-18 |
公开(公告)号: | CN109783837A | 公开(公告)日: | 2019-05-21 |
发明(设计)人: | 西博史 | 申请(专利权)人: | 瑞萨电子株式会社 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 为了提供能够提高仿真速度的仿真设备、仿真系统、仿真方法和仿真程序,仿真设备包括:分析单元,其通过使用第一跟踪信息,检测仿真目标模型的处理单元,这些处理单元没有相互依赖性并且能够并行处理;划分单元,其从仿真目标模型生成处理单元,并从第一跟踪信息生成用于处理单元的输入信息;多个第二指令集仿真器,其通过使用输入信息,关于处理单元并行执行仿真,以生成第二跟踪信息;确认单元,其将第一跟踪信息和第二跟踪信息相互比较,以检测匹配部分和失配部分;以及组合单元,其按时间序列顺序组合与匹配部分相对应的第二跟踪信息。 | ||
搜索关键词: | 跟踪信息 处理单元 仿真设备 仿真程序 仿真目标 仿真系统 输入信息 匹配 时间序列顺序 指令集仿真器 并行处理 并行执行 分析单元 划分单元 模型生成 确认单元 组合单元 检测 失配 | ||
【主权项】:
1.一种仿真设备,包括:第一指令集仿真器,其生成第一跟踪信息;分析单元,其通过使用所述第一跟踪信息,检测仿真目标模型的处理单元,所述处理单元没有相互依赖性并且能够并行处理;划分单元,其从所述仿真目标模型生成所述处理单元,并从所述第一跟踪信息生成用于所述处理单元的输入信息;多个周期精确的第二指令集仿真器,其通过使用所述输入信息,关于所述处理单元并行执行仿真,以生成第二跟踪信息,所述第二跟踪信息包括比所述第一跟踪信息更多的定时信息;确认单元,其将所述第一跟踪信息和所述第二跟踪信息相互比较,以检测匹配部分和失配部分,以及组合单元,其按时间序列顺序组合与所述匹配部分相对应的第二跟踪信息。
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