[发明专利]清洗设备有效
| 申请号： | 201811196678.6 | 申请日： | 2018-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN109354112B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 潘国宇 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32;B08B3/04;C02F1/72 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种清洗设备，其包括清洗单元，该清洗单元在清洗设备工作时，将紫外线照射单元产生的氧化性气体传输至水洗单元，氧化水洗单元内沉淀的有机物；这样在清洗设备工作时即可对水洗单元内沉淀的有机物进行氧化处理，这些有机物氧化之后就不会造成菌丝生长，保证了清洗设备的清洗效果，同时也避免了紫外线照射单元产生的氧化性气体直接排放清洗设备之外导致污染等问题，也不需要单独清洗水洗单元内沉淀的有机物，解决了现有技术存在的水洗单元内有机物沉淀导致清洗效果差的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 设备 | ||
【主权项】：
1.一种清洗设备，其特征在于，包括依次连接的基板入口、紫外线照射单元、水洗单元、清洗单元以及基板出口，其中：所述基板入口用于控制基板进入清洗设备，并传送至所述紫外线照射单元；所述紫外线照射单元用于使用紫外线照射去除所述基板表面的有机颗粒；所述水洗单元用于清洗所述基板表面的无机颗粒，并传送至所述基板出口；所述基板出口用于控制清洗后的基板离开清洗设备；所述清洗单元用于将所述紫外线照射单元产生的具备氧化性的氧化性气体传输至所述水洗单元，以氧化所述水洗单元内沉淀的有机物。
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