[发明专利]清洗设备

说明书

本发明提供一种清洗设备，其包括清洗单元，该清洗单元在清洗设备工作时，将紫外线照射单元产生的氧化性气体传输至水洗单元，氧化水洗单元内沉淀的有机物；这样在清洗设备工作时即可对水洗单元内沉淀的有机物进行氧化处理，这些有机物氧化之后就不会造成菌丝生长，保证了清洗设备的清洗效果，同时也避免了紫外线照射单元产生的氧化性气体直接排放清洗设备之外导致污染等问题，也不需要单独清洗水洗单元内沉淀的有机物，解决了现有技术存在的水洗单元内有机物沉淀导致清洗效果差的技术问题。

技术领域

本发明涉及清洗领域，尤其涉及一种清洗设备。

背景技术

在平板显示等行业中，阵列制程主要包括成膜、黄光与刻蚀；成膜是将金属等材料沉积到玻璃基板上，形成一定厚度的膜层；黄光是将掩模版上的图形转印到玻璃基板的膜层上，该图形由光阻构成；最后刻蚀制程将该光阻图形未覆盖的部分刻蚀掉，然后通过光阻剥离单元，留下相应的光阻图案。

其中，黄光制程包括清洗、去水干燥、涂布、预烘烤、曝光、显影和后烘烤等制程。而清洗制程对应的清洗设备包括：EUV(紫外线)照射单元、Brush(毛刷)单元、BJ/SJ(二流体喷射)单元、Shower(水洗)单元和A/K(风刀除水)单元，EUV的作用是使用紫外线照射基板除去有机物、Brush是除去大颗粒、BJ/SJ是除去无机物颗粒、水洗单元是使用等离子水进一步除去颗粒并形成均匀的水膜、A/K是除去润洗水及其中的杂质。

清洗设备在长期使用之后，DIW单元的厢体内将沉淀大量的有机颗粒等有机物，将引起菌类滋生导致清洗效果比较差。

即现有技术存在水洗单元内有机物沉淀导致清洗效果差的技术问题。

发明内容

本发明提供一种清洗设备，以解决现有技术存在水洗单元内有机物沉淀导致清洗效果差的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明实施例提供了一种清洗设备，其包括依次连接的基板入口、紫外线照射单元、水洗单元、清洗单元以及基板出口，其中：

所述基板入口用于控制基板进入清洗设备，并传送至所述紫外线照射单元；

所述紫外线照射单元用于使用紫外线照射去除所述基板表面的有机颗粒；

所述水洗单元用于清洗所述基板表面的无机颗粒，并传送至所述基板出口；

所述基板出口用于控制清洗后的基板离开清洗设备；

所述清洗单元用于将所述紫外线照射单元产生的具备氧化性的氧化性气体传输至所述水洗单元，氧化所述水洗单元内沉淀的有机物。

根据本发明一优选实施例，所述清洗单元包括进气管道、调节阀门以及出气管道，所述进气管道连通所述紫外线照射单元的厢体，用于引导所述紫外线照射单元产生的氧化性气体，所述出气管道连通所述水洗单元的厢体，用于将所述氧化性气体通入所述水洗单元，所述调节阀门用于调节所述氧化性气体通入所述水洗单元的速率。

根据本发明一优选实施例，所述清洗单元还包括分离器，所述分离器用于对所述紫外线照射单元产生的混合气体进行分离，得到所述氧化性气体。

根据本发明一优选实施例，所述分离器包括一氧化碳去除器，所述一氧化碳去除器用于去除所述混合气体中的一氧化碳。

根据本发明一优选实施例，所述一氧化碳去除器用于使用吸附剂去除所述混合气体中的一氧化碳。

根据本发明一优选实施例，所述吸附剂由二氧化锰和氧化铜按预设比例制成。

根据本发明一优选实施例，所述一氧化碳去除器用于使用金属盐酸溶液去除所述混合气体中的一氧化碳。

根据本发明一优选实施例，所述金属盐酸溶液包括氯化铜盐酸溶液。