[发明专利]一种支撑型薄膜体声波谐振器的制备方法有效

专利信息
申请号: 201811179359.4 申请日: 2018-10-10
公开(公告)号: CN109309483B 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 李国强;刘鑫尧;李洁;衣新燕 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H03H3/007 分类号: H03H3/007;H03H3/02;H03H9/02;H03H9/15;H03H9/17
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 陈文姬
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种支撑型薄膜体声波谐振器的制备方法,包括以下步骤:在(111)面Si衬底上生长金属插入层,并在其上继续通过金属有机物化学气相沉积法生长单晶AlN薄膜,最后在单晶AlN薄膜上沉积金属电极和支撑层。通过薄膜转移、剥离、顶电极刻蚀等过程,最终形成薄膜体声波谐振器的三明治压电堆叠结构。本发明通过引入金属插入层一方面减轻了AlN外延与生长衬底间的失配现象,提高了良品率和器件优值;另一方面在薄膜转移与剥离后可直接刻蚀出顶电极图案,简化制备工序。
搜索关键词: 一种 支撑 薄膜 声波 谐振器 制备 方法
【主权项】:
1.一种支撑型薄膜体声波谐振器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)在(111)面Si衬底上,通过射频磁控溅射或分子束外延法生长Mo金属插入层;(2)在Mo金属插入层上通过金属有机物化学气相沉积,生长单晶AlN薄膜作为薄膜体声波谐振器的压电层;(3)在单晶AlN薄膜表面溅射金属Mo层作为电极层,电极图形化后在电极表面制备一层金属Au,做为支撑层;(4)选用Si作为支撑衬底,通过深反应离子刻蚀在支撑衬底上刻蚀凹槽;(5)以支撑层为转移面,将步骤(3)制备得到的外延薄膜结构连同(111)面Si衬底一起转移到支撑衬底,通过键合工艺倒装贴合在支撑衬底上,实现薄膜的转移,获得空腔结构;(6)通过化学腐蚀的方法将制备(111)面Si衬底与Mo金属插入层分离;(7)对Mo金属插入层进行光刻,获得图案化的顶电极。
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