[发明专利]与光致抗蚀剂一起使用的下层涂料组合物有效
| 申请号： | 201811178032.5 | 申请日： | 2018-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN109725492B | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 李晶真;J-Y·安;Y-R·申;朴琎洪;沈载桓 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;G03F7/40;G03F7/039;G03F7/30;C09D5/00;C09D167/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了包括能够显示出标准等离子体蚀刻剂增强的蚀刻速率的抗反射组合物的新的组合物和方法。相对于现有组合物，本发明优选的抗反射涂料组合物具有降低的碳含量。 | ||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 一起 使用 下层 涂料 组合 | ||
【主权项】：
1.一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，所述方法包含：a)在衬底上涂覆一层包含以下的涂料组合物：包含重复单元的树脂，所述重复单元包含下式(I)的结构：![]()
其中R1、R2和R3各自独立地是氢或非氢取代基，其中R1、R2和R3中的至少一个是‑(CXY)(C＝O)O‑R，其中R是键联到另一聚合物单元的键并且X和Y各自独立地是氢或非氢取代基；和b)在所述涂料组合物层上涂覆一层光致抗蚀剂组合物。
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